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先進封裝解決方案凸顯行業(yè)價值，誰會成為下一個阿斯麥？
過去數十年來，摩爾定律猶如法則一般引領了半導體行業(yè)的發(fā)展，半導體制程持續(xù)升級，然而，當先進制程技術已走到5nm、3nm，甚至IBM(140.02, -6.82, -4.64%)已經發(fā)布了全球首個2nm的芯片制造技術，晶體管大小正不斷逼近原子的物理體積極限。
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光刻機龍頭：從荷蘭向中國出口DUV光刻機無需許可證？
“根據當前法規(guī)，ASML(阿斯麥)無需獲得美國出口許可證便可以繼續(xù)從荷蘭向中國客戶出貨DUV光刻系統(tǒng);對于直接從美國發(fā)貨系統(tǒng)或零件到受法規(guī)影響的客戶，ASML需獲得許可證。
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ASML極紫外光技術培訓中心在臺灣開張 就近服務臺積電
8月21日消息，據臺灣媒體報道，半導體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應商ASML（阿斯麥）的EUV(極紫外光刻)技術培訓中心昨日在臺灣臺南科學園區(qū)開張，就近服務第一大客戶臺積電。 ASML ASML的EUV技術培訓
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阿斯麥二季度交付7臺極紫外光刻機 但新增訂單遠不及上一季度
7月15日消息，據國外媒體報道，在處理器等各類芯片的制造過程中，光刻機至關重要，目前芯片制造工藝已提升到了5nm，只有光刻機制造商阿斯麥的極紫外光刻機能滿足這一先進工藝的要求。 阿斯麥極紫外光刻機
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阿斯麥二季度營收超過33億歐元 同比環(huán)比均大幅增長
7月15日消息，據國外媒體報道，光刻機廠商阿斯麥已發(fā)布了二季度的財報，營收超過33億歐元，同比環(huán)比均大幅增長，扭轉了一季度大幅下滑的頹勢。 阿斯麥的財報是在今日發(fā)布的，財報顯示在今年二季度，他們的凈
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ASML表態(tài): 沒有EUV光刻機，芯片廠商造不出7nm以下工藝芯片
作為半導體芯片生產過程中最重要的裝備，光刻機一直牽動人心。事實上，制程工藝越先進就要離不開先進光刻機。 光刻是半導體芯片制造中最費時間也是最費成本的環(huán)節(jié)之一，而且它決定了芯片的工藝水平，常說的XXnm工藝主要是看光刻機水平，10nm工藝之后難度越來越大，光刻機也需要升級到EUV級別。
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ASML宣布第一代HMI多光束檢測機HMI eScan1000，5nm產能大漲600%
眾所周知，荷蘭ASML公司是全球唯一的EUV光刻機供應商，7nm及以下的工藝生產都要靠他們的設備。 不過ASML不只是光刻機厲害，今天他們宣布了另外一個新產品——第一代HMI多光束檢測機HMI eScan1000，適用于5nm及更先進工藝，使得產能大漲600%。
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半導體設備供應商阿斯麥二季度營收25.68億歐元 高于一季度
7月17日消息，據國外媒體報道，半導體行業(yè)著名的光刻系統(tǒng)供應商阿斯麥今日發(fā)布了二季度的財報，該季其營收25.68億歐元，毛利潤、凈利潤環(huán)比也均有增長。阿斯麥在官網披露的數據顯示，其在二季度的營收為25
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上海集成電路研發(fā)中心與阿斯麥簽署合作備忘錄
作為致力于中國半導體產業(yè)發(fā)展的知名公共研發(fā)機構，上海集成電路研發(fā)中心有限公司(簡稱“研發(fā)中心”)與世界領先的芯片制造設備廠商阿斯麥(ASML)于今天簽署合作備
