作為半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中最重要的裝備，光刻機(jī)一直牽動(dòng)人心。事實(shí)上，制程工藝越先進(jìn)就要離不開先進(jìn)光刻機(jī)。

光刻是半導(dǎo)體芯片制造中最費(fèi)時(shí)間也是最費(fèi)成本的環(huán)節(jié)之一，而且它決定了芯片的工藝水平，常說的XXnm工藝主要是看光刻機(jī)水平，10nm工藝之后難度越來越大，光刻機(jī)也需要升級(jí)到EUV級(jí)別。

ASML副總裁Anthony Yen日前表態(tài)，如果沒有EUV光刻機(jī)，那么芯片廠商是造不出7nm以下工藝芯片的。

目前ASML公司是唯一一個(gè)能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司，他們做出這樣的表態(tài)其實(shí)也不讓人意外，畢竟這是一臺(tái)售價(jià)高達(dá)1.2億歐元、約合10億一臺(tái)的高端設(shè)備，全球半導(dǎo)體制造廠商都要看ASML的臉色。

臺(tái)積電在第一代7nm工藝上沒有使用EUV光刻機(jī)，但是7nm之后的工藝就很難避開EUV光刻機(jī)了，理論上可以用多重曝光的方式制造5nm級(jí)別的芯片，但是成本、良率都是個(gè)問題，無法拒絕EUV光刻機(jī)。