ASMl

關(guān)注85人關(guān)注

我要報錯

ASML估Q1營收未達標(biāo)

歐洲最大半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾控股公司(ASML Holding NV NL-ASML)預(yù)估第1季營收低于預(yù)期，并表示獲利能力將受到下一代極紫外光(EUV)系統(tǒng)訂單的箝制。艾司摩爾今天在聲明稿中指出，預(yù)期2014年前3個月銷售凈額約14

電子設(shè)計自動化
2014-01-26

ASML EUV 紫外光 AN
奇虎調(diào)整公司董事會兩董事辭職陳恂加入

1月22日消息，奇虎360（NYSE:QIHU）今日公布了公司董事會董事人選的變動消息。涂鴻川因個人原因從董事會離職，立即生效。李曙君因個人原因向董事會提交辭呈，他將與2014年5月1日公司提交20-F文件后辭職。銀湖投資集團

通信技術(shù)
2014-01-22

半導(dǎo)體電子工程斯坦福 ASML
極紫外光刻2015年商用：目標(biāo)10nm

全球最大的半導(dǎo)體制造設(shè)備供應(yīng)商荷蘭ASML今天重申，極紫外(EUV)光刻技術(shù)將在2015年如期投入商用，各大半導(dǎo)體廠商都在摩拳擦掌。ASML首席執(zhí)行官兼總裁Peter Wennink公開表示：“NXE:3300B極紫外光刻掃描儀的整合

模擬
2013-11-01

光刻機光刻 ASML 紫外光
聯(lián)發(fā)科并購晨星：成為臺灣年度最佳并購

訊：臺灣最重要的年度并購活動， 2013“臺灣并購金鑫獎”頒獎典禮暨并購實務(wù)研討會28日登場！將頒發(fā)“年度最具代表性獎”，由“聯(lián)發(fā)科并購晨星”、“國泰世華參股柬埔寨銀

半導(dǎo)體
2013-11-01

聯(lián)發(fā)科研討會臺積電 ASML
并購金鑫獎贏家聯(lián)發(fā)科

臺灣最重要的年度并購活動， 2013「臺灣并購金鑫獎」頒獎典禮暨并購實務(wù)研討會今（28）日登場！將頒發(fā)「年度最具代表性獎」，由「聯(lián)發(fā)科并購晨星」、「國泰世華參股柬埔寨銀行」、「中鋼參股ArcelorMittal」、「美光

半導(dǎo)體
2013-10-30

聯(lián)發(fā)科研討會臺積電 ASML
ELG：2020年歐洲半導(dǎo)體產(chǎn)能增至全球產(chǎn)能20%

據(jù)外媒electronicsweekly報道，為實現(xiàn)歐盟副總裁委員NeelieKroes的目標(biāo)，歐洲領(lǐng)導(dǎo)人集團（ELG）計劃到2020年提高歐洲半導(dǎo)體產(chǎn)能，達到全球半導(dǎo)體產(chǎn)值的20％。當(dāng)歐洲三大半導(dǎo)體公司——意法半導(dǎo)體(ST)、英飛凌(Infine

半導(dǎo)體
2013-10-20

半導(dǎo)體晶圓廠 LG ASML
ELG：2020年歐洲半導(dǎo)體產(chǎn)能增至全球產(chǎn)能20%

據(jù)外媒electronicsweekly報道，為實現(xiàn)歐盟副總裁委員Neelie Kroes的目標(biāo)，歐洲領(lǐng)導(dǎo)人集團(ELG)計劃到2020年提高歐洲半導(dǎo)體產(chǎn)能，達到全球半導(dǎo)體產(chǎn)值的20%。當(dāng)歐洲三大半導(dǎo)體公司——意法半導(dǎo)體(ST)、英飛凌

電子設(shè)計自動化
2013-10-14

半導(dǎo)體 LG MDASH ASML
為量產(chǎn)10nm制程鋪路　ASML攜手IMEC建置APC

艾司摩爾(ASML)與比利時微電子研究中心(IMEC)合作案再添一樁。雙方將共同設(shè)立先進曝光中心(Advanced Patterning Center, APC)，助力半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突破10奈米(nm)以下先進奈米曝光制程技術(shù)關(guān)卡，讓微影(Lithography)技術(shù)

消費電子
2013-10-10

元件制程技術(shù) PC ASML
為量產(chǎn)10nm制程鋪路　ASML攜手IMEC建置APC

艾司摩爾(ASML)與比利時微電子研究中心(IMEC)合作案再添一樁。雙方將共同設(shè)立先進曝光中心(Advanced Patterning Center, APC)，助力半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突破10奈米(nm)以下先進奈米曝光制程技術(shù)關(guān)卡，讓微影(Lithography)技術(shù)

電子設(shè)計自動化
2013-10-10

元件制程技術(shù) PC ASML
為量產(chǎn)10nm制程鋪路　ASML攜手IMEC建置APC

艾司摩爾(ASML)與比利時微電子研究中心(IMEC)合作案再添一樁。雙方將共同設(shè)立先進曝光中心(Advanced Patterning Center, APC)，助力半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突破10奈米(nm)以下先進奈米曝光制程技術(shù)關(guān)卡，讓微影(Lithography)技術(shù)

模擬
2013-10-09

元件制程技術(shù) PC ASML
延續(xù)半導(dǎo)體量產(chǎn)經(jīng)濟效益　EUV成10奈米制程發(fā)展關(guān)鍵

半導(dǎo)體的發(fā)展隨著摩爾定律(Moore’s Law)演進，雖然是關(guān)關(guān)難過但還是關(guān)關(guān)過，其中在制程技術(shù)上，主要瓶頸在微影制程的要求不斷提高，目前主流曝光技術(shù)是采用波長193奈米(nm)的浸潤式曝光(Immersion)技術(shù)；然而，進入

模擬
2013-10-07

半導(dǎo)體半導(dǎo)體制造 ASML EUV
應(yīng)用材料公司與東京威力科創(chuàng)合并市值近300億美元

全球兩大半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商──美商應(yīng)用材料公司(Applied Materials Inc.)與日本東京威力科創(chuàng)公司(Tokyo Electron Ltd.；TEL)日前宣布達成合并協(xié)議，雙方將攜手共創(chuàng)半導(dǎo)體和顯示器制造技術(shù)的新企業(yè)，透過股份轉(zhuǎn)換方式

消費電子
2013-09-27

力科顯示器應(yīng)用材料公司 ASML
ASML提升新EUV機臺技術(shù)生產(chǎn)效率

微影設(shè)備大廠ASML積極提升極紫外線(EUV)機臺技術(shù)的生產(chǎn)效率，在2012年購并光源供應(yīng)商Cymer后，大幅提升光源效率，從2009年至今光源效率分別為2009年2瓦、2010年5瓦、2011年10瓦，2012年提升至20瓦，目前已達55瓦，每

電子設(shè)計自動化
2013-09-12

半導(dǎo)體晶圓 ASML EUV
ASML新EUV機臺

微影設(shè)備大廠ASML積極提升極紫外線(EUV)機臺技術(shù)的生產(chǎn)效率，在2012年購并光源供應(yīng)商Cymer后，大幅提升光源效率，從2009年至今光源效率分別為2009年2瓦、2010年5瓦、2011年10瓦，2012年提升至20瓦，目前已達55瓦，每

模擬
2013-09-11

半導(dǎo)體晶圓 ASML EUV
ASML：量產(chǎn)型EUV機臺2015年就位

極紫外光(EUV)微影技術(shù)將于2015年突破量產(chǎn)瓶頸。傳統(tǒng)浸潤式微影技術(shù)在半導(dǎo)體制程邁入1x奈米節(jié)點后將面臨物理極限，遂使EUV成為產(chǎn)業(yè)明日之星。設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾(ASML)已協(xié)同比利時微電子研究中心(IMEC)和重量級晶圓

半導(dǎo)體
2013-08-24

晶圓廠 FINFET ASML EUV
ASML：量產(chǎn)型EUV機臺2015年就位

極紫外光(EUV)微影技術(shù)將于2015年突破量產(chǎn)瓶頸。傳統(tǒng)浸潤式微影技術(shù)在半導(dǎo)體制程邁入1x奈米節(jié)點后將面臨物理極限，遂使EUV成為產(chǎn)業(yè)明日之星。設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾(ASML)已協(xié)同比利時微電子研究中心(IMEC)和重量級晶圓

模擬
2013-08-20

晶圓廠 FINFET ASML EUV
ASML：量產(chǎn)型EUV機臺2015年就位

極紫外光(EUV)微影技術(shù)將于2015年突破量產(chǎn)瓶頸。傳統(tǒng)浸潤式微影技術(shù)在半導(dǎo)體制程邁入1x奈米節(jié)點后將面臨物理極限，遂使EUV成為產(chǎn)業(yè)明日之星。設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾(ASML)已協(xié)同比利時微電子研究中心(IMEC)和重量級晶圓

電子設(shè)計自動化
2013-08-20

晶圓廠 FINFET ASML EUV
16納米建置… 臺積電繼續(xù)沖

臺積電28納米制程預(yù)定第4季減產(chǎn)，也使臺積電有更多的資源及人力投入20納米及16納米等先進制程建置腳步，設(shè)備端感受到來自臺積電的先進制程設(shè)備訂單仍然強勁，但28納米制程相關(guān)耗材及設(shè)備將受影響。臺積電強調(diào)，今

模擬
2013-08-19

先進制程晶圓臺積電 ASML
EUV微影尚未功成　設(shè)備業(yè)者仍在努力

在日前于美國舊金山舉行的 Semicon West 半導(dǎo)體設(shè)備展上，仍在開發(fā)中的超紫外光(EUV)微影技術(shù)又一次成為討論焦點；歐洲微電子研究機構(gòu)IMEC總裁暨執(zhí)行長Luc Van den Hove在一場座談會中表示：「EUV仍然是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)界

模擬
2013-07-17

晶圓節(jié)點 ASML EUV
一個西電研究生的半導(dǎo)體求職歷程

其實在我求職期間，就已經(jīng)萌發(fā)了在找到工作后寫一份求職經(jīng)歷總結(jié)的想法，所以我完完整整的保留了求職三個多月來的所有資料，使我能對這段經(jīng)歷做詳細(xì)到位的總結(jié)。也希望你能從我的這段真實經(jīng)歷中學(xué)到一點經(jīng)驗，少走彎

模擬
2013-06-14

半導(dǎo)體奇夢達 LAYOUT ASML

首頁上一頁 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 下一頁尾頁

flower_huanghua
掛漏哺糟
zanjun
zjswuyunbo
my21cn
南京烙印技術(shù)
wwkkww1983
wcx04009102
zrn0681
liumangyang
igoal
kangwenjun0817
fanzhou2255
527silence
rgjinxuan
K1Nn
18610005120
l4157
xdqfc
myzk001

ASMl

ASML估Q1營收未達標(biāo)

奇虎調(diào)整公司董事會兩董事辭職陳恂加入

極紫外光刻2015年商用：目標(biāo)10nm

聯(lián)發(fā)科并購晨星：成為臺灣年度最佳并購

并購金鑫獎贏家聯(lián)發(fā)科

ELG：2020年歐洲半導(dǎo)體產(chǎn)能增至全球產(chǎn)能20%

ELG：2020年歐洲半導(dǎo)體產(chǎn)能增至全球產(chǎn)能20%

為量產(chǎn)10nm制程鋪路　ASML攜手IMEC建置APC

為量產(chǎn)10nm制程鋪路　ASML攜手IMEC建置APC

為量產(chǎn)10nm制程鋪路　ASML攜手IMEC建置APC

延續(xù)半導(dǎo)體量產(chǎn)經(jīng)濟效益　EUV成10奈米制程發(fā)展關(guān)鍵

應(yīng)用材料公司與東京威力科創(chuàng)合并市值近300億美元

ASML提升新EUV機臺技術(shù)生產(chǎn)效率

ASML新EUV機臺

ASML：量產(chǎn)型EUV機臺2015年就位

ASML：量產(chǎn)型EUV機臺2015年就位

ASML：量產(chǎn)型EUV機臺2015年就位

16納米建置… 臺積電繼續(xù)沖

EUV微影尚未功成　設(shè)備業(yè)者仍在努力

一個西電研究生的半導(dǎo)體求職歷程

相關(guān)標(biāo)簽

關(guān)注此標(biāo)簽的用戶(85人)

熱門活動

課程視頻