截至目前,華為麒麟990 5G是唯一應用了EUV極紫外光刻的商用芯片,臺積電7nm EUV工藝制造,而高通剛發(fā)布的驍龍765/驍龍765G則使用了三星的7nm EUV工藝。 EUV技術能夠落地商用,背
Intel的制程工藝一直備受關注。今天早些時候,荷蘭光刻機巨頭ASML(阿斯麥)放出一張路線圖,赫然羅列了Intel 7nm、5nm、3nm、2nm、1.4nm等工藝節(jié)點,尤其是最后這個將在2029年
12月11日,多家外媒報道ASML在近期的IEEE國際電子設備會議(IEDM)上,公布了一張英特爾未來10年的工藝路線圖,路線圖顯示英特爾未來將推出7nm、5nm、3nm、2nm和1.4nm工藝。AS
在半導體工藝進入10nm節(jié)點之后,制造越來越困難,其中最復雜的一步—;—;光刻需要用到EUV光刻機了,而后者目前只有荷蘭ASML阿斯麥公司才能供應。中芯國際去年也訂購了一臺EUV光刻機,日前該公司表示
近年來,隨著國家的大力支持以及國內市場需求的快速增長,國產半導體產業(yè)發(fā)展迅猛,而在關鍵的國產半導體設備領域也有了不小的進步。 比如在硅刻蝕機領域,北方華創(chuàng)實現(xiàn)了14nm設備的突破,同時也在去年實現(xiàn)了適
據(jù)多家外媒報道,在IEEE國際電子設備會議(IEDM)上,一張英特爾即將推出的制造工藝的擴展路線圖被透露,其中顯示,英特爾未來將推出7nm、5nm、3nm、2nm和1.4nm工藝。而這張圖是由ASML發(fā)言人在會議上展示的,ASML表示,此圖為英特爾9月在一次光刻會議上展示的。然而英特爾方面則澄清,這張圖被ASML修改過了。
今天鬧得沸沸揚揚的ASML光刻機對中國廠商斷供一事,ASML公司官方也發(fā)表了聲明,否認了延遲出貨、斷供等說法,稱媒體報道有誤,ASML對全球客戶是一視同仁的。 這次外媒報道來源于日本的日經新聞獨家新聞
11月7日消息,針對荷蘭ASML公司延遲出貨EUV光刻機的報道,中芯國際剛剛也作出了回應,稱“極紫外光(EUV)還在紙面工作階段,未進行相關活動。公司先進工藝研發(fā)進展順利。目前,研發(fā)與生產的連結一切正
EUV還在紙面工作階段,未進行相關活動。公司先進工藝研發(fā)進展順利。目前,研發(fā)與生產的連結一切正常??蛻襞c設備導入正常運作。
半導體芯片生產可以說是制造業(yè)的皇冠,而光刻機就是皇冠上的明珠,EUV光刻機則是明珠之光,其設計之復雜遠超一般工業(yè)設備。 目前EUV光刻機只有荷蘭ASML公司能夠生產,Q3季度他們交付了7臺EUV光刻機
臺積電今天宣布將全年的資本開支從110億美元提升到140-150億美元,增長了40%左右,希望進一步提升7nm及5nm產能。 在這個領域,唯一能跟臺積電競爭的就是三星了,但是三星的問題在于進展較慢,現(xiàn)
北京清芯華創(chuàng)投資公司投委會主席陳大同博士日前在報告中談到了中國半導體產業(yè)與世界一流水平的差距,其中封裝方面差距最小,最快5年追上,半導體制造上則需要10-15年,這部分也是國產最弱的一部分了。 在半導
在半導體制造過程中,最重要的一個過程就是光刻工藝,需要用到光刻機,7nm及以下節(jié)點工藝則需要EUV光刻機,目前只有荷蘭ASML公司能生產,每臺售價超過1億歐元,可以說是半導體行業(yè)的明珠了,是門檻非常高
半導體制造過程中最復雜也是最難的步驟就是光刻,光刻機也因此成為最重要的半導體制造設備。在7nm制程的較量中,臺積電之所以能夠領先,一個很重要的原因就是EUV技術,在半導體制造的工藝中,這部分的成本就能
在2019年,臺積電和三星都準備量產7納米的EUV工藝了,并且明年也會是5納米工藝的一個重要節(jié)點。要知道,在半導體制造的工藝中,最重要而且最復雜的就是光刻步驟,往往光這部分的成本就能占到33%左右,所
全球半導體設備廠ASML于17日公布2019年第2季財報。資料顯示,ASML第一季繳出成長成績單,整體表現(xiàn)優(yōu)于市場預期。
近日,阿斯麥在官網披露的數(shù)據(jù)顯示,其在二季度的營收為25.68億歐元,較今年一季度的22.29億歐元增加3.39億歐元,環(huán)比增長率為15.2%。
6月24日晚間,臺積電發(fā)布公告稱,斥資152.79億新臺幣(約合人民幣34億元)向ASML臺灣分公司訂購了一批機器設備。
為什么一臺最新的光刻機可以賣到超過一億美金?
晶圓制造產業(yè)進入7納米制程之后,目前全世界僅剩臺積電與三星,再加上號稱自家10納米制程優(yōu)于競爭對手7納米制程的英特爾等,有繼續(xù)開發(fā)能力之外,其他競爭者因須耗費大量金錢與人力物力的情況下,都已宣布放棄。