當?shù)貢r間6月30日,荷蘭政府正式頒布了有關先進半導體設備的額外出口管制的新條例。光刻機巨頭ASML表示,新規(guī)只涉及部分最新的DUV型號,包括TWINSCAN NXT:2000i以及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)。
比利時微電子研究中心 (IMEC) 、阿斯麥 (ASML) 共同宣布,雙方將在開發(fā)先進高數(shù)值孔徑(High-NA)極紫外(EUV)光刻試驗線的下一階段加強合作。
業(yè)內消息,荷蘭政府的半導體新規(guī)預計最快會在下周開始實施,屆時 ASML 的 DUV 光刻機將被限制出口。
據(jù)報道,在半導體工藝進入7nm節(jié)點之后,EUV光刻機是少不了的關鍵設備,目前只有ASML能制造,單臺售價10億人民幣,今年底還會迎來下一代EUV光刻機,價格也會大漲。
4月28日消息,對于中國市場而言,ASML正在全力以赴,預計2023年在中國的銷售額將保持在22億歐元左右(約合人民幣超162億元),其正在加快拓展在中國的業(yè)務和銷售。
相比2022年,今年阿斯麥(ASML)的凈銷售額有望增長25%以上。
4月18日消息,據(jù)臺系設備廠商透露,ASML近期由于客戶大砍資本支出、縮減訂單,最重要是大客戶臺積電也大砍逾4成EUV設備訂單及延后拉貨時間,2024全年業(yè)績將明顯承壓。
近日,荷蘭ASML全球總裁彼得·溫寧克悄悄赴華,拜會了中國商務部部長王文濤,雙方就ASML在華發(fā)展等議題進行了交流。
據(jù)業(yè)內信息報道,本周我國商務部部長王文濤會見了全球著名半導體設備公司荷蘭 ASML全球總裁 Peter·Wennink。
ASML在最新的聲明中指出,這些新的出口管制措施側重于先進的芯片制造技術,包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統(tǒng)。
據(jù)證券時報,3月9日上午,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)發(fā)布聲明表示,ASML預計必須申請許可證方可出口DUV設備。
隨著半導體工藝進入到5nm節(jié)點以內,對EUV光刻機的需求也不斷增長,目前全球只有ASML一家公司能夠生產(chǎn)EUV光刻機,今年的出貨量還會進一步提升。
前不久,荷蘭光刻機制造商 ASML 表示中國的前員工竊取了公司的專有技術數(shù)據(jù)。隨后 ASML 啟動了內部審查以及補救措施,并向有關部門報告了該起事件,ASML 對該起事件可能違反了出口管制協(xié)議表示擔憂。
該報告以“小影像,大影響”為主題,包含了首席執(zhí)行官、首席技術官和首席財務官致辭,ASML財務業(yè)績、市場、商業(yè)模式和技術路線圖。報告中還包括了環(huán)境、社會和治理(ESG)可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略,以及2022年的ESG績效和未來幾年的行動計劃。
據(jù)報道,1月28日,美國、荷蘭和日本就限制向中國出口先進芯片制造設備達成協(xié)議,其中將會涉及ASML、尼康、東京電子等企業(yè)的設備產(chǎn)品。
據(jù)外媒報道,美國已與荷蘭、日本達成協(xié)議,同意就向中國出口部分先進芯片生產(chǎn)設備實施限制,以此來削弱中國建立自主芯片制造產(chǎn)業(yè)的能力。那么針對此事,荷蘭與日本兩個盟國又持什么態(tài)度呢?
據(jù)業(yè)內消息,近日荷蘭光刻機巨頭ASML發(fā)布了去年Q4季度和全年的財報數(shù)據(jù),ASML總裁兼首席執(zhí)行官Peter·Wennink表示,對于高于預期的51.5%的毛利來說,主要是由于去年ASML柏林工廠火災導致的額外升級和保險賠償。
1月25日,阿斯麥(ASML)發(fā)布了2022年第四季度及全年財報。當前,盡管大環(huán)境充滿挑戰(zhàn),但ASML預計2023年銷售額仍將保持強勁增長。
在信息化的時代,數(shù)據(jù)中心是像水廠、電廠一樣的重要基礎設施,是數(shù)字經(jīng)濟的動力引擎。而數(shù)據(jù)中心的發(fā)展帶動以服務器、存儲為代表的IT算力設備的快速增長。
據(jù)業(yè)內知情人士透露,目前荷蘭的官員正在計劃出臺一項關于出口中國半導體設備的管制措施。