根據(jù)外媒的報(bào)道，三星晶圓廠已經(jīng)認(rèn)證了Cadence和Synopsys的全流程工具，該工具采用了極紫外光刻（EUV）的5LPE工藝技術(shù)。

三星晶圓廠使用Arm Cortex-A53和Arm Cortex-A57內(nèi)核認(rèn)證了用于5LPE技術(shù)的Synopsys融合設(shè)計(jì)平臺(tái)以及Cadence全流程數(shù)字工具。該認(rèn)證意味著這些工具滿足三星晶圓廠要求。

三星的5LPE技術(shù)依賴于具有新標(biāo)準(zhǔn)單元架構(gòu)的FinFET晶體管，并使用DUV和EUV步進(jìn)掃描系統(tǒng)。與7LPP相比，新技術(shù)的“邏輯效率”提高了25%，芯片開發(fā)人員可將芯片設(shè)計(jì)的功耗降低20%或?qū)⑿阅芴岣?0%。

由三星認(rèn)證的Candence和Synopsys的工具集包括編譯器、驗(yàn)證器、電源電路優(yōu)化器以及EUV專用工具。

由于三星的5LPE比其7LPP工藝使用更多的EUV層，因此預(yù)計(jì)它將用于三星華城的EUV工廠。該生產(chǎn)線將耗資6萬億韓元（46.15億美元），預(yù)計(jì)將于2019年完工，并于2020年開始大批量生產(chǎn)。