據(jù)業(yè)內消息，近日荷蘭光刻機巨頭 ASML 發(fā)布了今年二季度的營收數(shù)據(jù)報表，其中凈銷售額為 69 億歐元，超過了之前預期的 66.9 億歐元，同比上漲 19.4%。

此外，ASML 第二季度的毛利率為 51.3%，凈利潤 19 億歐元，二季度凈預訂額為 45 億歐元，其中 16 億歐元為 EUV 光刻機。ASML 預計三季度凈銷售額在 65~70 億歐元之間，毛利率約為 50%，預計年凈銷售額同比增長 30%。

ASML 總裁兼首席執(zhí)行官 Peter·Wennink 認為由于宏觀經濟持續(xù)存在不確定性導致不同細分市場的客戶目前更加謹慎，因此預計市場稍后會復蘇。此外復蘇斜率的形狀仍不清楚，但大約 380 億歐元的積壓訂單為 ASML 應對這些短期不確定性提供了良好的基礎。

此外 Wennink 還預計第三季度凈銷售額將在 65~70 億歐元之間，毛利率約為 50%。ASML 預計研發(fā)成本約為 10 億歐元，SG&A 成本約為 2.85 億歐元。由于 DUV 收入強勁，盡管由于不確定性增加，ASML 預計 2023 年將依舊強勁增長，與 2022 年同比凈銷售額將增長至 30%，毛利率將略有改善。

之前我們報道荷蘭出口新規(guī)于 9 月 1 日后生效，屆時 ASML 將不得不向政府申請出口許可證才能出口先進的浸潤式 DUV 系統(tǒng)(即TWINSCANNXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng))。

具體來說，出口管制名單新增了 TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i 等浸入式 DUV，這些設備最高可支持 5nm 工藝，臺積電就使用 SAQP 和氬氟浸沒 (ArFi) 光刻實現(xiàn)了 7 nm 量產。

ASML 在售的浸沒式光刻機主要有三大型號：TWINSCAN NXT:2050i、TWINSCAN NXT:2000i 和TWINSCAN NXT:1980Di。TWINSCAN NXT:1980Di 的分辨率可以達到≤38nm，每小時可以生產275片晶圓。

盡管其分辨率在 38nm 左右，但是通過多重曝光理論上依然可以支持 7nm 左右，只是這樣步驟更為復雜、成本更高，良率也會隨之變差，據(jù)說臺積電的第一代7nm工藝也是基于 NXT:1980Di 實現(xiàn)的。

目前在業(yè)內 NXT:1980Di 更多還是被用于 ≤45nm以下成熟制程的生產，2018 年長江存儲和華力二期(華虹六廠)訂購的 NXT:1980Di 成功進廠安裝，支持了兩家晶圓廠的生產。

2018 年下半年 ASML 正式出貨的更為先進的浸潤式光刻機 NXT:2000i 通過多重曝光則可以支持到 7nm 及 5nm 制程工藝需求，同年 12 月 ASML NXT2000i 首次進入中國，正式搬入 SK海力士位于無錫的工廠。