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[導(dǎo)讀]11 BGA封裝激光重熔釬料凸點制作技術(shù) 11.1 激光重熔釬料合金凸點的特點 BGA/CSP封裝,F(xiàn)lip chip封裝時需要在基板或者芯片上制作釬料合金凸點,釬料合金凸點的制作方法有:釬料濺射/蒸鍍-重熔方法、放置釬料球-重熔方

11 BGA封裝激光重熔釬料凸點制作技術(shù)

11.1 激光重熔釬料合金凸點的特點

BGA/CSP封裝,F(xiàn)lip chip封裝時需要在基板或者芯片上制作釬料合金凸點,釬料合金凸點的制作方法有:釬料濺射/蒸鍍-重熔方法、放置釬料球-重熔方法、釬料絲球焊-重熔方法、釬料膏印刷-重熔方法等。重熔方法以熱風(fēng)、紅外加熱為主,具有批量生產(chǎn),效率高的特點,但由于加熱時間長,界面產(chǎn)生比較厚的金屬間化合物,影響到使用的可靠性;同時器件內(nèi)的芯片也受到重熔的高熱作用。采用激光重熔方法則可克服這些問題。另外,激光重熔還可以用于BGA封裝釬料凸點的補修,當(dāng)凸點制作后發(fā)現(xiàn)有凸點漏缺、質(zhì)量不佳時,可以通過激光重熔進(jìn)行補修,提高成品率。



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