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[導(dǎo)讀]1、國(guó)內(nèi)LED產(chǎn)業(yè)具有廣闊的發(fā)展前景,LED半導(dǎo)體照明應(yīng)用,廣泛地用于大屏幕顯示、交通信號(hào)燈、手機(jī)背光源等,并開(kāi)始應(yīng)用于城市美化亮化、景觀燈、地?zé)?、手電筒、汽車用燈、指示牌等特殊照明領(lǐng)域。隨著單個(gè)LED光通亮和

1、國(guó)內(nèi)LED產(chǎn)業(yè)具有廣闊的發(fā)展前景,LED半導(dǎo)體照明應(yīng)用,廣泛地用于大屏幕顯示、交通信號(hào)燈、手機(jī)背光源等,并開(kāi)始應(yīng)用于城市美化亮化、景觀燈、地?zé)?、手電筒、汽車用燈、指示牌等特殊照明領(lǐng)域。隨著單個(gè)LED光通亮和發(fā)光效率的提高,即將進(jìn)入普通室內(nèi)照明、臺(tái)燈、筆記本電腦背光源、大尺寸LED顯示器背光源等市場(chǎng)廣闊。

LED生產(chǎn)過(guò)程中絕大部分廢水產(chǎn)生在原材料和芯片制造過(guò)程中,分為拉晶、切磨拋和芯片制造,主要含一般酸堿廢水、含氟廢水、有機(jī)廢水、氨氮廢水等幾種水質(zhì),在黃綠光晶片制造過(guò)程中還會(huì)有含砷廢水排出。

2、LED芯片加工廢水特點(diǎn):主要污染物為LED芯片生產(chǎn)過(guò)程中排放的大量有機(jī)廢水和酸堿廢水,另有少量含氟廢水。有機(jī)廢水主要污染物為醇、乙醇、雙氧水;酸堿廢水中主要污染物為無(wú)機(jī)酸、堿等。

3、LED切磨拋廢水特點(diǎn):主要污染物為大量清洗廢水,主要成分為硅膠、弱酸、硫酸、鹽酸、研磨砂等。

4、酸堿廢水排放:主要包括工藝酸堿廢水、廢氣洗滌塔廢水、純水站酸堿再生廢水,采用化學(xué)中和法處理。

含砷廢水:主要來(lái)自背面減薄及劃片/分割工序,采用化學(xué)沉淀法處理。

一般廢水:排放方式均為連續(xù)排放,主要指純水站RO濃縮廢水主要污染物為無(wú)機(jī)鹽類,采用生化法去除。

含氟廢水:主要清洗廢水中含有HF,使用混凝沉淀去除。

高氨氮廢水:使用折點(diǎn)加氯法,將廢水中的氨氮氧化成N2。投加過(guò)量氯或次氯酸鈉,使廢水中氨完全氧化為N2的方法,稱為折點(diǎn)氯化法,其反應(yīng)可表示為:

NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-

5、案例:

5.1、LED生產(chǎn)加工之藍(lán)寶石拉晶廢水

污水水質(zhì)、水量:

水量:480t/d;20t/h(24小時(shí)連續(xù))

廢水水質(zhì):

PH值5.0-10.0無(wú)量綱

出水要求:

達(dá)到國(guó)家廢水二級(jí)排放標(biāo)準(zhǔn)(<污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)>(GB8978-1996)表4標(biāo)準(zhǔn))的要求。具體指標(biāo)為:

處理工藝

酸堿廢水進(jìn)入酸堿廢水調(diào)節(jié)池后與投加的藥劑進(jìn)行中和反應(yīng),達(dá)到工藝要求后進(jìn)入有機(jī)廢水調(diào)節(jié)池。人工收集到含氟廢水收集池,加藥劑進(jìn)行沉淀。上清液達(dá)標(biāo)排放,污泥排入污泥濃縮池處理。

利用有機(jī)廢水調(diào)節(jié)池的池容增加生化處理功能,向池內(nèi)投加厭氧性水解菌,池內(nèi)配置穿孔水力攪拌系統(tǒng)以加強(qiáng)傳質(zhì),為后繼處理單元提供部分水解處理服務(wù)。

廢水經(jīng)過(guò)調(diào)節(jié)后經(jīng)泵提升進(jìn)入進(jìn)入?yún)捬跛獬亍?/p>

厭氧水解池采用上向流布水形式,利用循環(huán)管網(wǎng)系統(tǒng)加強(qiáng)池底部的混流強(qiáng)度,提高反應(yīng)器內(nèi)的傳質(zhì)效果。利用微生物的水解酸化作用將廢水中難降解的大分子有機(jī)物轉(zhuǎn)化為易降解的小分子有機(jī)物,將復(fù)雜的有機(jī)物轉(zhuǎn)變成簡(jiǎn)單的有機(jī)物,提高廢水的可生化性,有利于后續(xù)的好氧生化處理。出水自流進(jìn)入接觸氧化池。接觸氧化池的混合液進(jìn)入二沉池進(jìn)行泥水沉淀分離。為保證COD排放達(dá)標(biāo)的處理要求,將二沉池出水導(dǎo)入BAF進(jìn)行處理。生物曝氣濾池的出水流入清水池,為生物曝氣濾池提供濾料的反沖洗水,其余的清水達(dá)標(biāo)排放。

5.2、LED生產(chǎn)加工之切磨拋廢水

污水水質(zhì)、水量:

水量:432t/d;18t/h(24小時(shí)連續(xù))

廢水水質(zhì):

1PH值5.0-10.0無(wú)量綱

出水要求:

達(dá)到國(guó)家廢水二級(jí)排放標(biāo)準(zhǔn)(<污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)>(GB8978-1996)表4標(biāo)準(zhǔn))的要求。具體指標(biāo)為:

處理工藝

根據(jù)業(yè)主廢水的水質(zhì)情況,在吸取以往同類廢水處理裝置設(shè)計(jì)的成功經(jīng)驗(yàn)和一些同類廢水處理裝置的實(shí)際運(yùn)行經(jīng)驗(yàn),設(shè)計(jì)污水處理主體工藝路線如下:

格柵池+清洗廢水調(diào)節(jié)池+反應(yīng)池+物化沉淀池&mdash;達(dá)標(biāo)排放

污泥處理主體工藝采用工藝路線為:

污泥濃縮+污泥調(diào)理+板框壓濾&mdash;泥餅外運(yùn)

5.3、LED生產(chǎn)加工之芯片廢水

污水水質(zhì)、水量:

有機(jī)廢水水量:19.4t/h(24小時(shí)連續(xù))

水質(zhì):

PH值6.0-8.0無(wú)量綱

酸堿廢水水量:70t/h(24小時(shí)連續(xù))

水質(zhì):

PH值4.0-11.0無(wú)量綱

含氟廢水水量:4t/h(24小時(shí)連續(xù))

水質(zhì):

PH值2.0-4.0無(wú)量綱

氟化物≤200mg/L

處理工藝

酸堿廢水進(jìn)入酸堿廢水調(diào)節(jié)池后與投加的藥劑進(jìn)行中和反應(yīng),達(dá)到工藝要求后達(dá)標(biāo)排放。含氟廢水收集調(diào)節(jié)后與投加的藥劑反應(yīng)生成不溶性氟化物沉淀,上清液達(dá)標(biāo)排放。

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