6月9日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，在5nm工藝順利量產(chǎn)之后，芯片代工商臺(tái)積電在工藝量產(chǎn)及研發(fā)方面的重點(diǎn)，已經(jīng)放在了更先進(jìn)的3nm和2nm上。

5nm之后就將投入量產(chǎn)的3nm工藝方面，臺(tái)積電是計(jì)劃在2021年風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)，2022年上半年開(kāi)始大規(guī)模量產(chǎn)。

在3nm生產(chǎn)線方面，外媒在今年3月底的報(bào)道中，是表示臺(tái)積電在今年10月份就會(huì)開(kāi)始安裝相關(guān)的生產(chǎn)設(shè)備。

而在最新的報(bào)道中，出現(xiàn)了臺(tái)積電已提前開(kāi)始安裝3nm生產(chǎn)線的消息。外媒在報(bào)道中表示，臺(tái)積電已經(jīng)開(kāi)始安裝3nm生產(chǎn)線及相關(guān)的設(shè)施，正在按進(jìn)度推進(jìn)。

包括創(chuàng)始人張忠謀、現(xiàn)任CEO魏哲家在內(nèi)的臺(tái)積電高管，此前曾多次談及3nm工藝。

在退休前8個(gè)月，也就是在2017年的10月份，張忠謀在接受采訪時(shí)曾談到3nm工藝，當(dāng)時(shí)他是透露采用3nm工藝的芯片制造工廠計(jì)劃在2022年建成，有可能在2022年量產(chǎn)。

在今年4月16日的一季度財(cái)報(bào)分析師電話會(huì)議上，魏哲家也曾談及3nm工藝，他透露3nm工藝的研發(fā)正在按計(jì)劃推進(jìn)，計(jì)劃2021年風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)，2022年上半年大規(guī)模量產(chǎn)。

魏哲家在財(cái)報(bào)分析師電話會(huì)議上還透露，同第一代的5nm工藝（N5）相比，第一代的3nm工藝（N3），晶體管的密度將提升約70%，速度提升10%到15%，能耗改進(jìn)25%到30%。