IntelCEOPaulOtellini近日對投資者透露，半導體巨頭已經開始了7nm、5nm工藝的研發(fā)工作，這也是Intel第一次官方披露后10nm時代的遠景規(guī)劃。

他說：“我們的研究和開發(fā)是相當深遠的，我是說(未來)十年。”

按照路線圖，22nm工藝之后，Intel將在2013年進入14nm時代，相應產品代號Broadwell。下一站是10nm，目前還在早期研究階段，預計2015年左右實現(xiàn)。

7nm、5nm現(xiàn)在都處于理論研究階段，具體如何去做還遠未定案，而且隨著硅半導體技術復雜度的大幅提高，相信實現(xiàn)它們的代價也會高得多，即便是Intel這樣的巨頭也會感到很棘手，不過PaulOtellini向大家保證說，這兩種新工藝“正在按時向目標邁進”。

如果Intel能夠在未來十年內繼續(xù)堅持Tick-Tock發(fā)展策略，那么7nm、5nm應該會分別在2017年、2019年來到我們身邊，即便有些許延遲2020年也應該不會有問題。

Intel14nm工藝將會主要在俄勒岡州D1X、亞利桑那州Fab42、愛爾蘭Fab24三座晶圓廠投產，前者還有可能成為世界上第一家投產450毫米晶圓的工廠。