5月27日消息，據(jù)國(guó)外ý體報(bào)道，在芯片工藝方面，臺(tái)積電近幾年都走在行業(yè)前列，在去年率先量產(chǎn)7nm工藝之后，其更先進(jìn)的7nm EUV工藝也已開(kāi)始量產(chǎn)。

臺(tái)積電7nm EUV工藝已量產(chǎn) 性能較7nm可提升10%

外ý是在當(dāng)?shù)貢r(shí)間周日的報(bào)道中，表示臺(tái)積電的7nm EUV工藝已經(jīng)量產(chǎn)的，其還提到臺(tái)積電近日在臺(tái)灣新竹的一場(chǎng)技術(shù)論壇上，臺(tái)積電的CEOκ哲家確認(rèn)了7nm EUV工藝的更多細(xì)節(jié)信息。

同之前的7nm工藝相比，臺(tái)積電已經(jīng)量產(chǎn)的7nm EUV工藝，能明顯提高芯片的性能和能效，其晶體管的密度可提升20%，性能能提升10%，能效也能提升15%。

在7nm EUV工藝量產(chǎn)之后，相關(guān)芯片廠商的芯片也將采用這一技術(shù)生產(chǎn)。外ý在報(bào)道中表示，AMD的下一代銳龍?zhí)幚砥饕汛_定將采用臺(tái)積電的7nm EUV工藝，華為年底旗艦機(jī)所使用的處理器，也很有可能采用臺(tái)積電的7nm EUV工藝生產(chǎn)。

外ý在報(bào)道中表示，臺(tái)積電的7nm EUV工藝量產(chǎn)，對(duì)其用戶來(lái)收是一個(gè)好消息，但對(duì)英特爾等競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手來(lái)說(shuō)卻不是個(gè)太好的消息，他們就將提前面臨相關(guān)的挑戰(zhàn)。

除了量產(chǎn)7nm EUV工藝，外ý在報(bào)道中表示，臺(tái)積電還將提高7nm工藝的產(chǎn)能，這一工藝是在去年開(kāi)始量產(chǎn)，量產(chǎn)時(shí)間還不長(zhǎng)，目前仍是很先進(jìn)的芯片制造工藝，其產(chǎn)能在今年將提升150%。