力旺 NeoFuse 技術(shù)成功導入華邦電25nm DRAM制程
IP公司力旺電子25日宣布其一次可編程(OTP)存儲器硅智財NeoFuse成功導入華邦電25納米DRAM制程平臺,且即將進入量產(chǎn)階段,有助于客戶在車用、工業(yè)、5G通信等新的市場應用取得先機。
NeoFuse硅智財使DRAM產(chǎn)品在封裝前的芯片測試及封裝后的產(chǎn)品測試均可進行修補,達到多次修補(Multi-Repair)的目的。與傳統(tǒng)雷射調(diào)校(Laser Trimming)相比,不僅降低調(diào)校成本與時間,并可使制造測試流程更加便利。尤其是在芯片封裝后仍可進行修補(Repair),大大提升多芯片封裝(MCP)產(chǎn)品的生產(chǎn)良率。
可兼容于DRAM制程平臺的NeoFuse技術(shù)提供優(yōu)于一般工作范圍的操作電壓區(qū)間,有利客戶在產(chǎn)品設(shè)計上具備彈性并有效降低功耗。此外,NeoFuse的高編程良率,只需一次編程便可將資料成功寫入,可大幅降低操作復雜性和測試成本。
力旺業(yè)務發(fā)展中心副總何明洲表示,力旺硅智財解決方案已成功地導入各類型的芯片應用。與華邦電共同合作,將力旺的NeoFuse導入25納米DRAM制程,將使整體產(chǎn)品測試更加靈活,更有效率地提供符合高端客戶與應用需求的產(chǎn)品。
力旺與華邦電對雙方來說均是重要里程碑,除現(xiàn)階段在25納米DRAM制程的合作外,未來更進一步攜手進行NeoFuse在二代DRAM制程的開發(fā)計劃,預計在不久后即可完成布局。





