微電子產(chǎn)業(yè)特種化學(xué)品和材料解決方案廠商英特格 (Entegris) 宣布，新一代的光罩盒已獲得半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備商艾司摩爾 (ASML) 的認(rèn)證，可用于極紫外光 (EUV) 微影技術(shù)的芯片大量生產(chǎn)上，用以保護(hù)在制造過(guò)程中光罩的完整。

英特格表示，日前公司正式發(fā)布了下一代 EUV 1010 光罩盒，可用于以 EUV 微影技術(shù)進(jìn)行大量生產(chǎn)的半導(dǎo)體制造上。英特格進(jìn)一步指出，EUV 1010 光罩盒是透過(guò)與全球最大芯片生產(chǎn)設(shè)備制造商之一的 ASML 密切合作而開(kāi)發(fā)的，已率先成為全世界第一個(gè)獲得 ASML 的認(rèn)證，可用于 NXE:3400B 以及未來(lái)更先進(jìn)機(jī)臺(tái)上的光罩盒產(chǎn)品。

英特格還表示，隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)開(kāi)始大量使用 EUV 微影技術(shù)進(jìn)行先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的大量制造，保持 EUV 光罩無(wú)缺陷的要求比以往任何時(shí)候都要高。因此，英特格的 EUV 1010光 罩盒已經(jīng)通過(guò) ASML 全面認(rèn)證，可用于他們的最新一代 EUV 微影機(jī)，并展現(xiàn)對(duì)的 EUV 光罩保護(hù)能力，這其中還包括了解決最關(guān)鍵的粒子污染挑戰(zhàn)。因此，英特格的 EUV 1010 光罩盒也因此讓客戶(hù)能夠順利地使用這最先進(jìn)的微影制程，來(lái)制造出產(chǎn)品所需的越來(lái)越小線寬。

而為了在 ASML 的 NXE:3400B 微影機(jī)中實(shí)現(xiàn)這些性能水準(zhǔn)，英特格開(kāi)發(fā)出使用于接觸光罩和控制環(huán)境上的新型技術(shù)。英特格晶圓和光罩處理副總裁 Paul Magoon 表示，EUV 1010 代表了英特格的產(chǎn)品在改進(jìn)缺陷率方面的重大突破，使得為先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)實(shí)施的客戶(hù)，可以專(zhuān)注于提高效率和產(chǎn)量。而且，與 ASML 的共同開(kāi)發(fā)和測(cè)試，也確保 EUV 1010 可符合最先進(jìn)的 EUV 微影機(jī)的要求。