微影設備大廠荷商艾司摩爾第2季財報符合市場預期，執(zhí)行長PeterWennink表示，行動裝置需求強勁，帶動晶圓代工廠及存儲器廠擴大投資，其中晶圓代工廠已著手準備20納米以下先進制程產能，DRAM廠則擴大MobileDRAM的擴產，因此，下半年市場景氣將優(yōu)于上半年。

艾司摩爾（ASML）第2季因合并了微影光學廠Cymer，單季營收達11.87億歐元，并銷售了38臺微影設備，其中來自于晶圓代工廠的訂單占了43％強，又以臺積電的訂單最多。而艾司摩爾已接但未出貨（backlog）的微影設備訂單已達42臺，將在年底前陸續(xù)交貨給客戶。

艾司摩爾執(zhí)行長PeterWennink表示，晶圓代工廠客戶已經著手進行20納米至14納米以下先進制程的微影設備建置，將用來生產新一代的行動裝置內建處理器芯片，同樣受惠于行動裝置強勁需求的DRAM廠，因為面臨產能短缺問題，也已開始著手擴充MobileDRAM產能。

艾司摩爾先前預估今年營收目標約47.3億歐元，但受惠于客戶擴大采購，營收目標將上調到50億歐元。

艾司摩爾與英特爾、臺積電、三星等共同合作進行的「客戶聯(lián)合投資專案」（CustomerCo-InvestmentProgram），主要投入極紫外光（EUV）及18寸晶圓微影設備的開發(fā)。

在EUV微影技術方面，艾司摩爾指出，研發(fā)進度符合預期，光源功耗已提升到55Ｗ，并完成60W的測試，預估2014年可將EUV微影設備的每小時晶圓產出量，提升到70片速度，亦即光源功耗將提升到100W。而艾司摩爾預估今年將出貨5臺NXE：3300B的EUV微影設備，并已拿到11臺正式訂單及7臺預訂訂單。

根據(jù)臺積電共同營運長蔣尚義的預期，EUV至少要達到每小時完成處理100片晶圓的產出量，才會具有經濟效益，帶動半導體廠改用EUV微影技術。設備業(yè)者推估，時間點應會落在2015年左右，10納米可能是EUV真正可以進入量產的制程節(jié)點。

在18寸晶圓微影設備部份，艾司摩爾根據(jù)客戶聯(lián)合投資專案內容，正在準備生產6套設備，初期將分成浸潤式（immersion）及EUV等兩大平臺，其中2015年會先推出EUV微影平臺試產設備，2016年推出浸潤式平臺試產設備，真正量產型的18寸微影設備的出貨時間大約落在2018年。