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[導(dǎo)讀]圍繞450mm晶圓和EUV(ExtremeUltraviolet,超紫外線)曝光等新一代半導(dǎo)體制造技術(shù)的動向日趨活躍。2012年7月,全球最大的曝光設(shè)備廠商——荷蘭阿斯麥(ASML)宣布,將從半導(dǎo)體廠商獲得總額約為1300億日元的援助,以推

圍繞450mm晶圓EUV(ExtremeUltraviolet,超紫外線)曝光等新一代半導(dǎo)體制造技術(shù)的動向日趨活躍。2012年7月,全球最大的曝光設(shè)備廠商——荷蘭阿斯麥(ASML)宣布,將從半導(dǎo)體廠商獲得總額約為1300億日元的援助,以推進技術(shù)開發(fā)。同時該公司還公布了向客戶企業(yè)出售最多25%的股份、接受其投資的計劃。該公司將通過上述措施加速450mm晶圓技術(shù)和EUV曝光技術(shù)的開發(fā),建立可在2018年前后開始采用這些技術(shù)生產(chǎn)半導(dǎo)體器件的環(huán)境。

最先參與這項計劃的是英特爾。英特爾除了收購阿斯麥15%股份的以外,還將向其提供約800億日元的研發(fā)費用。之后,臺積電(TSMC,TaiwanSemiconductorManufacturing)也加入了該計劃。臺積電將收購阿斯麥5%的股份,并提供約270億日元的研發(fā)費用。此外,似乎三星電子也在考慮向阿斯麥投資。英特爾還將對全球第二大曝光設(shè)備企業(yè)尼康提供支援,用于開發(fā)450mm晶圓的設(shè)備等。

半導(dǎo)體廠商向設(shè)備廠商出資

英特爾和臺積電將入股全球最大的曝光設(shè)備企業(yè)阿斯麥,同時還將為450mm晶圓的設(shè)備和EUV曝光設(shè)備提供研發(fā)資金。而且,三星等可能也會加入到這一計劃。英特爾估計還會向全球第二大曝光設(shè)備企業(yè)尼康提供規(guī)模達到數(shù)百億日元的資金援助。(攝影:阿斯麥)

上述動向表明,新一代制造技術(shù)的開發(fā)負擔很大。由于僅靠設(shè)備廠商難以維持足夠的開發(fā)資金,因此希望盡快利用這些技術(shù)的半導(dǎo)體廠商開始提供支持。原來設(shè)備業(yè)界對450mm晶圓技術(shù)一直持消極態(tài)度,而現(xiàn)在認為“今后450mm晶圓技術(shù)的開發(fā)將全面啟動”(大型制造裝置廠商)的觀點越來越強烈。原因是曝光設(shè)備支持450mm晶圓后,可以更加容易地推進開發(fā)周邊工藝的設(shè)備。

少數(shù)半導(dǎo)體廠商向設(shè)備廠商提供“資助”,產(chǎn)生了新一代制造設(shè)備將優(yōu)先供應(yīng)給這些廠商的可能性。NAND閃存巨頭東芝等將采取何種行動成為業(yè)界關(guān)注的焦點。
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