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[導(dǎo)讀]根據(jù)半導(dǎo)體協(xié)會(SIA)最新調(diào)查顯示,2011年第1季全球半導(dǎo)體產(chǎn)能平均利用率上攀93.7%,較2010年第4季的92.9%再度向上攀升,此外,就個別領(lǐng)域來看,絕大多數(shù)半導(dǎo)體元件產(chǎn)能利用率均超過90%。與2010年第4季相較,產(chǎn)能利用

根據(jù)半導(dǎo)體協(xié)會(SIA)最新調(diào)查顯示,2011年第1季全球半導(dǎo)體產(chǎn)能平均利用率上攀93.7%,較2010年第4季的92.9%再度向上攀升,此外,就個別領(lǐng)域來看,絕大多數(shù)半導(dǎo)體元件產(chǎn)能利用率均超過90%。

與2010年第4季相較,產(chǎn)能利用率數(shù)據(jù)變動較大的領(lǐng)域則是在MOS類別里,包括了0.18微米、0.15微米和0.13微米等制程,此外,在晶圓代工領(lǐng)域的產(chǎn)能利用率數(shù)據(jù)變動也相對較高。

此外,2011年第1季8寸晶圓產(chǎn)能利用率達到89.6%,而12寸晶圓的產(chǎn)能利用率則高達97.0%。

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