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[導(dǎo)讀]韓國半導(dǎo)體大廠海力士半導(dǎo)體(Hynix)主要NANDFlash產(chǎn)品群,近期將從原本的30納米制程轉(zhuǎn)換至20納米級制程。海力士目前整體NANDFlash產(chǎn)量,以26納米制程產(chǎn)品比重逾50%為最大。海力士相關(guān)人員表示,26納米制程N(yùn)ANDFlash比

韓國半導(dǎo)體大廠海力士半導(dǎo)體(Hynix)主要NANDFlash產(chǎn)品群,近期將從原本的30納米制程轉(zhuǎn)換至20納米級制程。海力士目前整體NANDFlash產(chǎn)量,以26納米制程產(chǎn)品比重逾50%為最大。

海力士相關(guān)人員表示,26納米制程N(yùn)ANDFlash比重至2011年3月底約為40%,6月已超越50%,月底可望提升到50%中段。26納米制程產(chǎn)品將逐漸取代32納米制程產(chǎn)品,成為海力士主力產(chǎn)品。

NANDFlash為非揮發(fā)性存儲器芯片,即使中斷供電也能儲存信息,是智能型手機(jī)、平板計(jì)算機(jī)等行動(dòng)裝置的主要存儲器。若采用26納米制程生產(chǎn)的NANDFlash,可縮減單一晶圓生產(chǎn)的半導(dǎo)體尺寸,生產(chǎn)性較32納米制程提升60%以上。

尤其26納米制程在生產(chǎn)32Gb和64Gb等高容量NANDFlash產(chǎn)品時(shí),較32納米制程更有利,可積極應(yīng)對近來以行動(dòng)裝置為中心暴增的存儲器需求趨勢。

海力士目前正在忠清北道清州廠增建NANDFlash專用廠M11,而M11大部分為26納米制程設(shè)備。海力士相關(guān)人員表示,海力士2011年將會致力強(qiáng)化NANDFlash競爭力,在轉(zhuǎn)換至26納米制程后,計(jì)劃2011年下半開始投入20納米制程N(yùn)ANDFlash量產(chǎn)。

另一方面,海力士2010年第3季到第4季,在NANDFlash市場的市占率從9.4%攀升至10.4%,2011年第1季擴(kuò)大至10.7%。

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