半導體測試設備領導者愛德萬測試為因應1X奈米制程光罩缺陷檢測需求，推出全新多功能整合型量測掃描式電子顯微鏡E3640，預計于2014年6月正式上市。

E3640為愛德萬測試廣受業(yè)界采用的E3600系列全新電子顯微鏡產(chǎn)品，其精準度和產(chǎn)出速度已獲得大幅精進，并擁有業(yè)界最佳圖樣缺陷檢測能力，可支援業(yè)界即將面臨的1X奈米制程。除應用于標準半導體微影光罩檢測外，E3640亦能針對EUV光罩、NIL母模等下一代微影基板提供更高量測效能。


愛德萬測試全新多功能整合型量測掃描式電子顯微鏡系統(tǒng)E3640。
隨著行動裝置終端市場需求日漸高漲，半導體產(chǎn)業(yè)即將在短期內(nèi)進入1X奈米制程量產(chǎn)階段，此重大轉變將帶動業(yè)界對于超小尺寸元件高穩(wěn)定性、高精準度圖樣缺陷檢測能力的需求。E3640的推出正是回應此需求，這套系統(tǒng)可提供領先業(yè)界的精密量測能力，且功能更先進更強大，有助于提升光罩研發(fā)和產(chǎn)出效率。

E3640采用電子光學鏡頭，導入更高階訊號處理硬體，突破上一代系統(tǒng)瓶頸，大幅提升量測復制效能，并支援1X奈米節(jié)點硬式罩幕開發(fā)與量產(chǎn)評估。除此之外，在軟體方面，這套新系統(tǒng)也能與其他E3600系列產(chǎn)品相容，讓使用者有效運用現(xiàn)有軟體資產(chǎn)。

E3640可與微影模擬工具連結，讓開發(fā)人員進行光罩圖樣模擬設計，并透過連結提供重要圖樣資訊回饋。E3640并可連結EDA工具取得待測圖樣座標與表貌結構(Topography)，提高「熱點」(亦即光罩上難以修正的復雜或極小圖樣)的量測精準度，使開發(fā)效率獲得顯著提升。此外，E3640承襲愛德萬測試E3630系統(tǒng)的專利運算技術和多重偵測器配置設定，可對圖樣寬度、高度與側邊壁面角度進行即時3D觀察量測與識別量測。