為因應(yīng)晶片封裝的制程技術(shù)演進(jìn)，工研院開發(fā)出國內(nèi)首套采3D成像的「IC封裝形貌檢測(cè)模組」，藉此克服傳統(tǒng)2D取像無法判別載板上錫球落差的檢測(cè)死角。工研院指出，該平臺(tái)精度達(dá)到5微米等級(jí)解析度，未來可應(yīng)用在半導(dǎo)體先進(jìn)封裝制程的檢測(cè)，協(xié)助測(cè)試設(shè)備廠商提升檢測(cè)設(shè)備精度、進(jìn)而強(qiáng)化我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的競(jìng)爭(zhēng)力。

隨著電子產(chǎn)品朝輕薄短小、功能好、速度快的發(fā)展，內(nèi)部的IC元件功能越來越精密，后段IC封裝的檢測(cè)技術(shù)也越具挑戰(zhàn)與重要性。工研院量測(cè)中心段家瑞主任表示，IC封裝檢測(cè)市場(chǎng)每年約有新臺(tái)幣4000億元商機(jī)，隨著IC內(nèi)部元件越趨微小精密，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)于量測(cè)精密度的要求也越為提高。

在此同時(shí)，國內(nèi)廠商雖擁有自動(dòng)化整合技術(shù)與在地服務(wù)的優(yōu)勢(shì)，但是最關(guān)鍵零組件檢測(cè)模組都來自國外，不僅價(jià)格昂貴、也無法客制化調(diào)整或提升檢測(cè)正確率，故難以取得國際競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。

為促進(jìn)國內(nèi)自動(dòng)化光學(xué)檢測(cè)發(fā)展，工研院成功開發(fā)出國內(nèi)首套結(jié)合2D與3D檢測(cè)技術(shù)的「IC封裝形貌檢測(cè)模組」，可同時(shí)進(jìn)行高精度的2D缺陷檢測(cè)與3D形貌量測(cè)，提供業(yè)者更精確、多元、快速且在地化的測(cè)試支援服務(wù)，開發(fā)成果也在今年的SEMICON Taiwan 2013(臺(tái)灣半導(dǎo)體展)首次登場(chǎng)。

目前大部分的廠商仍以2D取像檢測(cè)方式為IC 封裝產(chǎn)品把關(guān)，但僅以平面影像做為檢驗(yàn)判讀，無法量測(cè)采BGA(球閘陣列)封裝體底部的錫球表面缺陷、更無法檢出IC封裝本體的翹曲，加上現(xiàn)今IC晶圓開始導(dǎo)入雷射矽鉆孔(via)制程，在檢測(cè)精微度上更具挑戰(zhàn)。

工研院指出，最新開發(fā)的3D成像檢測(cè)模組，可透過2D平面檢測(cè)找出破裂、異常連結(jié)、異物、缺件等異常，同時(shí)利用多相位投影解像技術(shù)，透過投光散斑造成的陰影斷面來計(jì)算錫球排面的高低落差，檢測(cè)出傳統(tǒng)2D檢測(cè)時(shí)容易被忽略的立體高差與曲面變型瑕疵，可用于多種材質(zhì)檢測(cè)，協(xié)助廠商達(dá)到精確、快速、低成本檢測(cè)的目標(biāo)。