電子設計自動化(EDA)工具供應商積極強化與安謀國際(ARM)和晶圓廠的合作關系。益華電腦(Cadence)、明導國際(Mentor Graphics)和新思科技(Synopsys)，均積極擴大與安謀國際及格羅方德(GLOBALFOUNDRIES)和三星(Samsung)等晶圓代工廠的合作關系，以加速高復雜晶片架構的開發(fā)流程。

益華全球營運高級副總裁黃小立表示，安謀國際、Imagination等處理器矽智財(IP)架構較為復雜，且多屬特殊、高階制程的應用范疇，所以EDA工具供應商與矽智財廠商的合作將會持續(xù)擴大。因此EDA廠商可透過與矽智財廠商攜手結盟，再與晶圓廠進行合作，來幫助IC設計廠商縮短晶片設計時間和成本。

據(jù)了解，益華透過RTL-to-sign off流程，再與安謀國際Cortex-A7處理器共同進行測試工作，目前已幫助IC設計廠商的測試晶片以三星14奈米(nm)鰭式電晶體(FinFET)制程進入試產階段，使得這些廠商在邁入下一代先進制程能更加省時、省力。

除益華之外，新思日前亦與安謀國際進行合作，推出VDK系列EDA工具--Virtualizer Development Kit，該工具可幫助IC設計廠商開發(fā)基于ARMv8核心的系統(tǒng)單晶片，并透過加速操作系統(tǒng)、設備驅動程序和其他元件的開發(fā)，縮短晶片上市時程。

另一方面，由于先進20/14奈米FinFET制程，將使設計工程師面臨布局依賴效應(LDE)、雙重曝光(Double Patterning)等技術上的挑戰(zhàn)，而導致晶片尺寸與功耗無法有效降低，因此晶圓廠與EDA廠商的合作亦將日益緊密，以確保晶片制造過程更加順利。

目前格羅方德和三星均與益華、新思和明導在先進20/14奈米FinFET制程進行合作。其中，格羅方德導入益華的Virtuoso Advanced Node先進制程工具，以提供IC設計廠商SKILL-based制程設計套件(PDK)，進而改善設計啟動(Start-up)時間，進而提升設計品質。