Molecular Imprints推動半導(dǎo)體450mm晶圓過渡
[導(dǎo)讀]壓印微影公司Molecular Imprints Inc.宣布，該公司采用 J-FIL 壓印微影技術(shù)的 Imprio450 設(shè)備獲業(yè)界半導(dǎo)體廠商采用，將協(xié)助用于開發(fā)其 450mm 晶圓生產(chǎn)。該公司聲稱，這款設(shè)備能夠協(xié)助加速半導(dǎo)體公司向 450mm 晶圓生產(chǎn)
壓印微影公司Molecular Imprints Inc.宣布，該公司采用 J-FIL 壓印微影技術(shù)的 Imprio450 設(shè)備獲業(yè)界半導(dǎo)體廠商采用，將協(xié)助用于開發(fā)其 450mm 晶圓生產(chǎn)。該公司聲稱，這款設(shè)備能夠協(xié)助加速半導(dǎo)體公司向 450mm 晶圓生產(chǎn)過渡，縮短至少兩年的轉(zhuǎn)型期。
Molecular Imprints公司表示，其 Imprio450 設(shè)備在2012年底時獲業(yè)界半導(dǎo)體公司采用。根據(jù)該公司表示，這項(xiàng)設(shè)備用于一項(xiàng)多年晶圓服務(wù)開發(fā)合約的一部份。
日前在一場由SEMI舉辦的產(chǎn)業(yè)策略研討會上，英特爾公司副總裁Robert Bruck展示了該首款全圖形化450mm晶圓。.
Molecular Imprints 公司專有的 J-FIL 壓印微影(Jet and Flash Imprint Lithography)技術(shù)已能實(shí)現(xiàn)小于2nm-3 sigma線邊緣粗糙度和1.2nm 3 sigma臨界尺寸均勻性的24nm圖案結(jié)構(gòu)。它并為10nm圖形提供了單步驟制程的發(fā)展前景。
Molecular Imprints公司CEO Mark Melliar-Smith表示：「在一個光學(xué)微影開發(fā)計劃往往長達(dá)數(shù)年以及花費(fèi)動輒數(shù)十億美元的時代，我們有能力在收到客戶采購訂單的短一年內(nèi)實(shí)現(xiàn)設(shè)計、建造并提供一款先進(jìn)的奈米壓印平臺?！?br>
他補(bǔ)充說，該 Imprio450 的功能完全符合半導(dǎo)體記憶體制造方面的需求，不過該公司在將 J-FL 技術(shù)導(dǎo)入先進(jìn) CMOS 元件量產(chǎn)方面也取得了更多的進(jìn)展。
編譯：Susan Hong
(參考原文：Imprint litho firm claims 450-mm first，by Peter Clarke)
Molecular Imprints公司表示，其 Imprio450 設(shè)備在2012年底時獲業(yè)界半導(dǎo)體公司采用。根據(jù)該公司表示，這項(xiàng)設(shè)備用于一項(xiàng)多年晶圓服務(wù)開發(fā)合約的一部份。
日前在一場由SEMI舉辦的產(chǎn)業(yè)策略研討會上，英特爾公司副總裁Robert Bruck展示了該首款全圖形化450mm晶圓。.
Molecular Imprints 公司專有的 J-FIL 壓印微影(Jet and Flash Imprint Lithography)技術(shù)已能實(shí)現(xiàn)小于2nm-3 sigma線邊緣粗糙度和1.2nm 3 sigma臨界尺寸均勻性的24nm圖案結(jié)構(gòu)。它并為10nm圖形提供了單步驟制程的發(fā)展前景。
Molecular Imprints公司CEO Mark Melliar-Smith表示：「在一個光學(xué)微影開發(fā)計劃往往長達(dá)數(shù)年以及花費(fèi)動輒數(shù)十億美元的時代，我們有能力在收到客戶采購訂單的短一年內(nèi)實(shí)現(xiàn)設(shè)計、建造并提供一款先進(jìn)的奈米壓印平臺?！?br>
他補(bǔ)充說，該 Imprio450 的功能完全符合半導(dǎo)體記憶體制造方面的需求，不過該公司在將 J-FL 技術(shù)導(dǎo)入先進(jìn) CMOS 元件量產(chǎn)方面也取得了更多的進(jìn)展。
編譯：Susan Hong
(參考原文：Imprint litho firm claims 450-mm first，by Peter Clarke)
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