Molecular Imprints, Inc. (MII)宣布，該公司已經(jīng)獲得一份包含多個(gè)壓印范本的采購訂單。這些范本將被整合進(jìn)某半導(dǎo)體設(shè)備公司的微影機(jī)中，包括 MII 專有的最新 Jet and Flash 壓印微影(J-FIL)技術(shù)，這項(xiàng)技術(shù)具備先進(jìn)半導(dǎo)體儲(chǔ)存設(shè)備大量產(chǎn)所需的性能。
該公司的 J-FIL 技術(shù)已經(jīng)展示了24奈米圖案結(jié)構(gòu)，其刻線邊緣粗糙度小于2奈米(3西格瑪)，臨界尺寸均勻性為1.2奈米(3西格瑪)，可擴(kuò)展至10奈米，使用的是簡單的單一圖案制程。 J-FIL 避免功率受限的遠(yuǎn)紫外線(EUV)光源、復(fù)雜的光學(xué)透鏡和鏡面以及利用超靈敏光致抗蝕劑讓圖案成形的難度，這些固有的擁有成本優(yōu)勢(shì)使其非常適合用于半導(dǎo)體儲(chǔ)存器的制造。

Molecular Imprints 的 Jet and Flash 壓印微影(J-FIL)技術(shù)將在2014年用于半導(dǎo)體儲(chǔ)存器的生產(chǎn)。該公司總裁兼執(zhí)行長 Mark Melliar-Smith 表示，Molecular Imprints的設(shè)備和商用面具合作夥伴與內(nèi)部團(tuán)隊(duì)已經(jīng)對(duì)開發(fā)活動(dòng)進(jìn)行了協(xié)調(diào)，并在去年取得了巨大的進(jìn)步，特別是在減少不合格和降低整體 擁有成本(CoO)方面有了很大的改善。該公司期望 J-FIL 技術(shù)的下一步商業(yè)化進(jìn)程可為半導(dǎo)體儲(chǔ)存器的未來發(fā)展提供支援。