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[導讀]國際研究暨顧問機構(gòu)Gartner發(fā)表最新展望報告指出, 2012年全球晶圓制造設備(WFE)支出預期為330億美元,較2011年362億美元的支出規(guī)模衰退了8.9%。該機構(gòu)分析師表示,晶圓制造設備市場可望于2013年恢復成長,預期屆時的

國際研究暨顧問機構(gòu)Gartner發(fā)表最新展望報告指出, 2012年全球晶圓制造設備(WFE)支出預期為330億美元,較2011年362億美元的支出規(guī)模衰退了8.9%。該機構(gòu)分析師表示,晶圓制造設備市場可望于2013年恢復成長,預期屆時的支出規(guī)??蛇_354億美元,較2012年增加7.4%。

Gartner研究副總裁Bob Johnson表示:「隨著晶圓和其它邏輯制造廠增加30奈米以下的生產(chǎn), 晶圓制造設備于2012初始表現(xiàn)強勁。新設備需求較原先預期為高,主要是在良率未達成熟水準之際,若要提高市場對領先(leading-edge)裝置的需求,便需拉高產(chǎn)量。但是,新邏輯生產(chǎn)設備需求會隨著良率提升而趨緩,導致今年下半年的出貨量下滑。」

根據(jù)Gartner預測,晶圓制造產(chǎn)能利用率將于2012年中下滑至85%左右,預計到年底會緩慢回升至約87%。領先技術產(chǎn)能使用率則是會在下半年回到85%以上的范圍,到2013年將達95%以下的水準,提供了樂觀的資本投資環(huán)境。

Johnson表示:「在庫存修正期之后,產(chǎn)能會逐恢復至更正常的水準。需求成長,加上領先產(chǎn)品在尚未發(fā)展成熟前的低良率,持續(xù)消耗增加的產(chǎn)能,產(chǎn)能利用率因而會再度于2012年第二季開始上升。直至2012年下半年的資本支出抑制策略,同樣會為新增的產(chǎn)能減緩,整體產(chǎn)能利用率會因而于2013年之初回到正常水準。領先技術產(chǎn)能利用率在2013年大多會維持在95%以下的水準,為資本投資提供持續(xù)的動能?!?/font>

半導體產(chǎn)業(yè)在2011年不斷有許多技術升級,此一趨勢會延續(xù)至今年,可以帶動更多不同設備的銷售機會。晶圓代工將進入28奈米制程,領先技術邏輯則轉(zhuǎn)換至20奈米的制程,NAND Flash將采用1X技術制程,DRAM則采用4X和3X技術制程。Gartner分析師指出,設備供應商會因技術制程世代不同,而面臨不同的挑戰(zhàn)。



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