波蘭華沙和德國耶拿--(美國商業(yè)資訊)--領(lǐng)先的電子束光刻系統(tǒng)提供商Vistec電子束公司宣布，華沙著名機構(gòu)Electronic Materials Technology (ITME)購買了Vistec的可變電子束系統(tǒng)SB251。這款先進的光刻工具將被用于各種微光和衍射元件、新型材料以及光刻掩膜的研究和制造。

ITME是波蘭領(lǐng)先的研究機構(gòu)，研究領(lǐng)域涉及材料、創(chuàng)新設(shè)備和電子、微觀力學(xué)和光電應(yīng)用組件的研究、開發(fā)和制造等多學(xué)科領(lǐng)域。ITME總監(jiān)Zygmunt Luczynski表示：“Vistec的電子束繪圖機具有高性能和靈活性，因此我們選用該產(chǎn)品為研究、開發(fā)和制造提供支持。我們預(yù)計新型Vistec SB251將為成功達成我們的研發(fā)計劃做出巨大貢獻。我們是在歐洲進行招標后，最終決定選擇這款產(chǎn)品的?！?br>
Vistec SB251是一款通用系統(tǒng)，專為直寫和掩膜制造曝光設(shè)計。該系統(tǒng)能夠處理并曝光用于半導(dǎo)體和光學(xué)應(yīng)用的透明及非透明材料。該系統(tǒng)配備50kV電子光、1nm地址網(wǎng)和階段行程范圍為210mm x 210mm的曝光平臺，可在各種底膜進行50nm以下光刻，從不超過200mm的晶圓到7英寸的掩膜。該系統(tǒng)擁有圖形用戶界面(GUI)和全自動盒對盒底膜處理，可被ITME這樣多元化、多用戶環(huán)境的機構(gòu)高效利用。此外，該系統(tǒng)配備數(shù)據(jù)準備軟件包ePLACE（EQUIcon GmbH提供）。

Vistec電子束公司總經(jīng)理Wolfgang Dorl評論說：“我們的長期合作伙伴ITME獲得了先進的電子束光刻系統(tǒng)Vistec SB251。SB251具有高度靈活性和可靠性，完美適合ITME現(xiàn)在面臨的多元化應(yīng)用并可應(yīng)對未來挑戰(zhàn)。我們的合作始于20多年前，很高興ITME向Vistec下了訂單，進一步推進雙方成功的合作關(guān)系?！?br>