大日本網(wǎng)屏開發(fā)處理速度為800枚/小時(shí)的單葉式晶圓清洗裝置
[導(dǎo)讀]SS-3200(攝影:大日本網(wǎng)屏制造)(點(diǎn)擊放大)
大日本網(wǎng)屏制造(DNS)開發(fā)出了處理速度為800枚/小時(shí)的單葉式晶圓清洗裝置“SS-3200”。這是一款用軟刷和純水對(duì)晶圓進(jìn)行物理清洗的擦洗(Scrubber )式清洗裝置。
SS-3200(攝影:大日本網(wǎng)屏制造)(點(diǎn)擊放大)
大日本網(wǎng)屏制造(DNS)開發(fā)出了處理速度為800枚/小時(shí)的單葉式晶圓清洗裝置“SS-3200”。這是一款用軟刷和純水對(duì)晶圓進(jìn)行物理清洗的擦洗(Scrubber )式清洗裝置。
據(jù)大日本網(wǎng)屏制造介紹,SS-3200新開發(fā)出了可高速搬運(yùn)晶圓的機(jī)構(gòu),同時(shí)控制程序也煥然一新,由此在不增加清洗處理單元(反應(yīng)室)數(shù)量的情況下,實(shí)現(xiàn)了約相當(dāng)于原來2倍的800枚/小時(shí)的實(shí)際處理能力。而且還繼承了現(xiàn)有“SS-3100”中獲得高度評(píng)價(jià)的工藝性能和8個(gè)反應(yīng)室構(gòu)成等,同時(shí)支持半導(dǎo)體器件的微細(xì)化和立體構(gòu)造化。
另外,大日本網(wǎng)屏制造預(yù)定在2011年12月7日~12月9日于幕張Messe會(huì)展中心舉行的“SEMICON Japan 2011”上展出這款新產(chǎn)品。將從2011年12月開始銷售。(記者:赤坂 麻實(shí),Tech-On?。?





