Molecular Imprints 獲提供先進光刻機和薄片圖案形成服務的合約，為 G450c 計劃提供支援
Molecular Imprints 獲領先 IC 制造商授予首個450毫米光刻系統(tǒng)訂單
德克薩斯州奧斯丁2011年11月18日電 /美通社亞洲/ — 奈米圖案系統(tǒng)和解決方案的市場和技術領先商 Molecular Imprints, Inc. 今天宣布，該公司已從一家領先的 IC 制造商處獲得了一份合約，打造行業(yè)首個 450毫米 光刻系統(tǒng)。 此次購買包括一項多年期薄片圖案形成服務合約以及其它450毫米奈米壓印系統(tǒng)的選擇權。Molecular Imprints 的專有 Jet and Flash? Imprint Lithography (J-FIL?) 技術以及優(yōu)質 壓印掩膜 的商業(yè)推出是選擇該公司作為行業(yè)向450毫米晶圓過渡中堅力量的決定因素。



Molecular Imprints 總裁兼首席執(zhí)行官 Mark Melliar-Smith 表示：“半導體設備和制造商供應鏈必須及早獲得完全圖案化的優(yōu)質450毫米晶圓，及時開發(fā)和優(yōu)化其產(chǎn)品和工藝，以實現(xiàn)過渡。除了更大的基板尺寸之外，晶圓上日益增加的小設備功能必須能夠一直應用到未來，用作原始設備制造商和工藝開發(fā)工具。我們的 J-FIL? 技術是現(xiàn)在唯一的光刻解決方案，可滿足行業(yè)向450毫米過渡的廣泛需求。我們期待利用我們的能力在所要求的設計規(guī)則下及時實現(xiàn)向450毫米的過渡?！?br>

鑒于193i 光刻技術已被強制采用復雜的復式圖案制程來制作如今的半導體，極遠紫外光刻 (EUV) 又不知何時可以啟用，MII 的 J-FIL 技術被用于啟動向450毫米的過渡就不足為奇了。J-FIL 已展示了刻線邊緣粗糙度 (<2nm LER, 3 sigma) 和臨界尺寸均勻性 (1.2nm CDU, 3 sigma) 不同尋常的24奈米圖案結構，可擴展至小于18奈米，使用簡單的單一圖案工藝。J-FIL 通過避免高耗電 x 射線光源、復雜的光學透鏡和鏡子以及尚未開發(fā)的超靈敏光致抗蝕劑實現(xiàn)的內(nèi)在擁有成本優(yōu)勢使其非常符合450毫米計劃重要的生產(chǎn)力目標。

作為該450毫米合約的一部分，Molecular Imprints 將于明年下半年開始提供光刻系統(tǒng)和后來的晶圓服務。五年期晶圓服務合約需要向 G450C 聯(lián)盟提供數(shù)千個完全圖案化的450毫米晶圓，并可選擇按需購買其它 J-FIL 壓印系統(tǒng)。

Molecular Imprints, Inc. 簡介

Molecular Imprints, Inc. (MII) 是半導體和硬碟 (HDD) 行業(yè)高解析度及低擁有成本奈米圖案系統(tǒng)和解決方案的技術領先商。MII 將利用其擁有 IntelliJet? 材料應用的創(chuàng)新 Jet and Flash? Imprint Lithography (J-FIL?) 技術成為儲存和快閃記憶體設備高量圖案形成解決方案的全球市場和技術領先商，同時推動新興市場的顯示器、清潔能源、生物技術等行業(yè)。MII 通過提供價格適中、相容且可擴展至小于10奈米解析度水準的全方位奈米圖案解決方案促進奈米刻度圖案的形成。諮詢詳情或在 twitter 上參閱該公司，請參訪： www.molecularimprints.com。