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[導(dǎo)讀]聯(lián)華電子(UMC,以下簡稱聯(lián)電)與新思科技(Synopsys)共同宣布雙方擴(kuò)展夥伴關(guān)系,將于聯(lián)電 28奈米HLP Poly SiON制程平臺上開發(fā)新思科技的 DesignWare IP 。延續(xù)之前在聯(lián)電40奈米與55奈米制程的成功經(jīng)驗(yàn),新思科技將會于

聯(lián)華電子(UMC,以下簡稱聯(lián)電)與新思科技(Synopsys)共同宣布雙方擴(kuò)展夥伴關(guān)系,將于聯(lián)電 28奈米HLP Poly SiON制程平臺上開發(fā)新思科技的 DesignWare IP 。延續(xù)之前在聯(lián)電40奈米與55奈米制程的成功經(jīng)驗(yàn),新思科技將會于聯(lián)電28奈米HLP Poly SiON制程上,導(dǎo)入其經(jīng)驗(yàn)證的DesignWare嵌入式記憶體,以及邏輯元件資料庫。
聯(lián)電表示,此次合作將晶片設(shè)計公司得以在較低的風(fēng)險下,設(shè)計出高速低功耗的系統(tǒng)單晶片,并取得更快的產(chǎn)品上市時程。兩家公司長久以來的合作,涵跨了聯(lián)華電子0.18微米至28奈米制程,而成功研發(fā)出的高品質(zhì)DesignWare IP,正是這份穩(wěn)固合作關(guān)系下的豐碩成果。

聯(lián)電的 28奈米HLP制程除了保留傳統(tǒng)Poly SiON技術(shù)的成本競爭力,更采用了創(chuàng)新的制程技術(shù),具備絕佳的性價比,與業(yè)界其他28奈米Poly SiON制程相比較,大幅提升了效能與功耗表現(xiàn)。此一強(qiáng)化的28奈米Poly SiON制程,提供晶片設(shè)計者由40奈米制程到28奈米制程更順暢的移轉(zhuǎn)路徑,使晶片設(shè)計能夠輕易地導(dǎo)入制程并且快速上市。

新思科技廣泛的產(chǎn)品組合,包含了經(jīng)速度,功耗與位面積最佳化,并經(jīng)過10億顆以上晶片驗(yàn)證的嵌入式記憶體與標(biāo)準(zhǔn)元件資料庫。DesignWare嵌入式記憶體與邏輯元件資料庫包括了先進(jìn)的電源管理功能,例如淺待機(jī),深待機(jī)與關(guān)機(jī),還有一個電源最佳化套件,藉以延長手持式應(yīng)用產(chǎn)品的電池壽命。此外,新思科技整合型STAR Memory System測試與修復(fù)解決方案,可讓晶片設(shè)計公司達(dá)到更高測試品質(zhì)與嵌入式記憶體良率,同時降低晶片面積。

支援聯(lián)華電子28奈米HLP制程的新思科技DesignWare嵌入式記憶體與邏輯元件資料庫,預(yù)計于2012年第二季推出。新思科技的晶圓專工矽智財支援專案中的部分內(nèi)容,包含了于聯(lián)華電子28奈米HLP制程平臺上,免費(fèi)提供嵌入式記憶體與邏輯元件資料庫給合乎資格的獲授權(quán)者使用。聯(lián)華電子的28奈米Poly SiON技術(shù)現(xiàn)已在客戶產(chǎn)品試產(chǎn)中,并可接受客戶design-in。




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