臺積電:28納米產(chǎn)能滿載
[導(dǎo)讀]臺積電仍信心喊話,除了第4季營運(yùn)可望好轉(zhuǎn),臺積電研發(fā)資深副總經(jīng)理蔣尚義昨(7)日出席臺灣半導(dǎo)體展(SEMICON Taiwan)指出,28納米能拿到的訂單都拿到了,明年需求非常好,現(xiàn)在產(chǎn)能全數(shù)滿載。
此外,臺積電20納
臺積電仍信心喊話,除了第4季營運(yùn)可望好轉(zhuǎn),臺積電研發(fā)資深副總經(jīng)理蔣尚義昨(7)日出席臺灣半導(dǎo)體展(SEMICON Taiwan)指出,28納米能拿到的訂單都拿到了,明年需求非常好,現(xiàn)在產(chǎn)能全數(shù)滿載。
此外,臺積電20納米研發(fā)進(jìn)展順利,將于明年9月量產(chǎn),18寸晶圓將于2015年在新竹建立生產(chǎn)線試產(chǎn)。
歐洲債信危機(jī)及美國失業(yè)率居高不下等問題,持續(xù)影響全球總體經(jīng)濟(jì)及終端需求,半導(dǎo)體市場第3季旺季不旺,第4季能否止跌回升,至今仍是眾說紛云。臺積電位于電子生產(chǎn)鏈最上游,近期已感受到訂單開始回流,其中28納米先進(jìn)制程訂單陸續(xù)到位,對第4季產(chǎn)能利用率回升有很大的幫助。
蔣尚義表示,臺積電28納米目前已完成設(shè)計(jì)定案(tape-out)并開始交貨的芯片,所有性能都達(dá)到要求,對此相當(dāng)滿意,而28納米能拿到的訂單也都拿到了,目前28納米產(chǎn)能全滿,明年28納米的需求將會非常好。
據(jù)設(shè)備業(yè)者表示,臺積電第4季開始投片生產(chǎn)的28納米訂單,包括阿爾特拉(Altera)及賽靈思(Xilinx)的可程序邏輯閘陣列(FPGA)芯片、高通3G基頻芯片及Snapdragon處理器、超微及輝達(dá)(NVIDIA)的新一代繪圖芯片等。明年第1季開始,包括瑞薩、富士通、博通等訂單也將陸續(xù)到位。
臺積電20納米研發(fā)進(jìn)展順利,明年9月就會導(dǎo)入量產(chǎn),明年要開始進(jìn)行的14納米制程研發(fā),也到了要決定使用何種微影技術(shù),包括極紫外光(EUV)或多重曝光浸潤式顯影技術(shù)。蔣尚義表示,EUV的設(shè)備機(jī)臺目標(biāo)是每小時(shí)產(chǎn)出100片晶圓,但現(xiàn)在研發(fā)機(jī)臺只能產(chǎn)出5片,多重電子束(MEB)只有1片,離量產(chǎn)效率還差很遠(yuǎn)。
蔣尚義表示,20納米世代EUV技術(shù)尚未完備,所以仍采用多重曝光技術(shù),但有成本增加且效率減半的問題,客戶轉(zhuǎn)換制程意愿會降低,因此,隨著制程持續(xù)微縮,除了靠微影技術(shù)上的突破外,只好移往大尺寸的18寸晶圓生產(chǎn)。對臺積電來說,移轉(zhuǎn)到18寸晶圓,人力及廠房數(shù)均可減少,還可降低水電耗費(fèi),2015年會在新竹建立生產(chǎn)線試產(chǎn),但量產(chǎn)時(shí)間現(xiàn)在仍難以預(yù)估。
此外,臺積電20納米研發(fā)進(jìn)展順利,將于明年9月量產(chǎn),18寸晶圓將于2015年在新竹建立生產(chǎn)線試產(chǎn)。
歐洲債信危機(jī)及美國失業(yè)率居高不下等問題,持續(xù)影響全球總體經(jīng)濟(jì)及終端需求,半導(dǎo)體市場第3季旺季不旺,第4季能否止跌回升,至今仍是眾說紛云。臺積電位于電子生產(chǎn)鏈最上游,近期已感受到訂單開始回流,其中28納米先進(jìn)制程訂單陸續(xù)到位,對第4季產(chǎn)能利用率回升有很大的幫助。
蔣尚義表示,臺積電28納米目前已完成設(shè)計(jì)定案(tape-out)并開始交貨的芯片,所有性能都達(dá)到要求,對此相當(dāng)滿意,而28納米能拿到的訂單也都拿到了,目前28納米產(chǎn)能全滿,明年28納米的需求將會非常好。
據(jù)設(shè)備業(yè)者表示,臺積電第4季開始投片生產(chǎn)的28納米訂單,包括阿爾特拉(Altera)及賽靈思(Xilinx)的可程序邏輯閘陣列(FPGA)芯片、高通3G基頻芯片及Snapdragon處理器、超微及輝達(dá)(NVIDIA)的新一代繪圖芯片等。明年第1季開始,包括瑞薩、富士通、博通等訂單也將陸續(xù)到位。
臺積電20納米研發(fā)進(jìn)展順利,明年9月就會導(dǎo)入量產(chǎn),明年要開始進(jìn)行的14納米制程研發(fā),也到了要決定使用何種微影技術(shù),包括極紫外光(EUV)或多重曝光浸潤式顯影技術(shù)。蔣尚義表示,EUV的設(shè)備機(jī)臺目標(biāo)是每小時(shí)產(chǎn)出100片晶圓,但現(xiàn)在研發(fā)機(jī)臺只能產(chǎn)出5片,多重電子束(MEB)只有1片,離量產(chǎn)效率還差很遠(yuǎn)。
蔣尚義表示,20納米世代EUV技術(shù)尚未完備,所以仍采用多重曝光技術(shù),但有成本增加且效率減半的問題,客戶轉(zhuǎn)換制程意愿會降低,因此,隨著制程持續(xù)微縮,除了靠微影技術(shù)上的突破外,只好移往大尺寸的18寸晶圓生產(chǎn)。對臺積電來說,移轉(zhuǎn)到18寸晶圓,人力及廠房數(shù)均可減少,還可降低水電耗費(fèi),2015年會在新竹建立生產(chǎn)線試產(chǎn),但量產(chǎn)時(shí)間現(xiàn)在仍難以預(yù)估。





