阿斯麥（ASML Holding NV）宣布，將提供可提高該公司ArF液浸曝光裝置“TWINSCAN NXT：1950i”曝光性能和生產(chǎn)效率的多種技術(shù)。

阿斯麥稱，TWINSCAN NXT：1950i從2009年開始供貨，目前全球的半導(dǎo)體廠商已導(dǎo)入80多臺用于45nm～32nm的產(chǎn)品。為使上述裝置支持22nm，需要提高曝光性能，同時客戶還希望提高生產(chǎn)效率。此次公開了可滿足這些需求的技術(shù)。

為提高曝光性能，阿斯麥已經(jīng)提供了控制照明系統(tǒng)的技術(shù)“FlexRay”。另外，此次開始提供控制透鏡波面以減少像差等的技術(shù)“FlexWave”和修正因掩模溫度上升而出現(xiàn)變形誤差的技術(shù)。關(guān)于掩模變形的修正技術(shù)，利用新開發(fā)的傳感器測量初始掩模溫度分布，根據(jù)測量結(jié)果，通過前饋控制算出因熱膨脹導(dǎo)致的掩模變形、以及用于修正其變形的透鏡和曝光平臺的參數(shù)修正值。

為提高生產(chǎn)效率，阿斯麥計劃在2011年第三季度提供“PEP（Performance Enhancement Package）”。通過在硬件和軟件兩方面強化曝光裝置的性能，將吞吐量提高了15～20％。在曝光125次時可實現(xiàn)175～200張/小時，曝光96次時可實現(xiàn)230張/小時（英文發(fā)布資料）。（記者：長廣 恭明）