IMEC、Atrenta開發(fā)最新3D晶片設(shè)計(jì)流程
時(shí)間:2011-05-31 04:45:00
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晶片
DAC
應(yīng)力
3D設(shè)計(jì)
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[導(dǎo)讀]EDA 公司 Atrenta 宣布,其與 IMEC 合作的 3D整合研究計(jì)劃,己針對(duì)異質(zhì) 3D堆疊晶片組裝開發(fā)出了規(guī)劃和分割設(shè)計(jì)流程。 Atrenta 和 IMEC 也宣布將在今年6月6~8日的 DAC 展中,展示雙方共同開發(fā)的設(shè)計(jì)流程。
該設(shè)計(jì)流程
EDA 公司 Atrenta 宣布,其與 IMEC 合作的 3D整合研究計(jì)劃,己針對(duì)異質(zhì) 3D堆疊晶片組裝開發(fā)出了規(guī)劃和分割設(shè)計(jì)流程。 Atrenta 和 IMEC 也宣布將在今年6月6~8日的 DAC 展中,展示雙方共同開發(fā)的設(shè)計(jì)流程。
該設(shè)計(jì)流程結(jié)合了由Atrenta的Spyglass實(shí)體3D原型工具,以及IMEC開發(fā)的熱及機(jī)械應(yīng)力模型所制作的布局規(guī)劃。瞄準(zhǔn)領(lǐng)域包括:針對(duì)行動(dòng)及高性能應(yīng)用的產(chǎn)品、影像應(yīng)用、堆疊DRAM和固態(tài)磁碟(SSD)等。
在3D設(shè)計(jì)領(lǐng)域,有數(shù)個(gè)較具潛力的分割和互連解決方案,包括矽內(nèi)插器和晶粒方向的選項(xiàng)在內(nèi)。其他的挑戰(zhàn)還包括在組裝和最終配置階段可能引發(fā)的熱性能和機(jī)械應(yīng)力等問題。
受限于時(shí)間和成本,要透過全面性的設(shè)計(jì)來探索不同的解決方案幾乎是不可能實(shí)現(xiàn)的。因此,在真正開始設(shè)計(jì)前從虛擬分割和原型建置獲得反饋極具潛在優(yōu)勢(shì)。
Atrenta 3D設(shè)計(jì)流程的關(guān)鍵組件是由IMEC開發(fā)的精巧熱機(jī)(thermal and mechanical)模型,以及經(jīng)驗(yàn)證的邏輯上DRAM封裝零件。
此次在DAC中的展示包括針對(duì)繞線擁擠(routing congestion )之3D堆疊的設(shè)計(jì)分割;透過矽穿孔(TSV)的布局;背面重新分配層的支援,以及可在3D平面圖上顯示熱剖面圖的功能,IMEC表示。
編譯: Joy Teng
該設(shè)計(jì)流程結(jié)合了由Atrenta的Spyglass實(shí)體3D原型工具,以及IMEC開發(fā)的熱及機(jī)械應(yīng)力模型所制作的布局規(guī)劃。瞄準(zhǔn)領(lǐng)域包括:針對(duì)行動(dòng)及高性能應(yīng)用的產(chǎn)品、影像應(yīng)用、堆疊DRAM和固態(tài)磁碟(SSD)等。
在3D設(shè)計(jì)領(lǐng)域,有數(shù)個(gè)較具潛力的分割和互連解決方案,包括矽內(nèi)插器和晶粒方向的選項(xiàng)在內(nèi)。其他的挑戰(zhàn)還包括在組裝和最終配置階段可能引發(fā)的熱性能和機(jī)械應(yīng)力等問題。
受限于時(shí)間和成本,要透過全面性的設(shè)計(jì)來探索不同的解決方案幾乎是不可能實(shí)現(xiàn)的。因此,在真正開始設(shè)計(jì)前從虛擬分割和原型建置獲得反饋極具潛在優(yōu)勢(shì)。
Atrenta 3D設(shè)計(jì)流程的關(guān)鍵組件是由IMEC開發(fā)的精巧熱機(jī)(thermal and mechanical)模型,以及經(jīng)驗(yàn)證的邏輯上DRAM封裝零件。
此次在DAC中的展示包括針對(duì)繞線擁擠(routing congestion )之3D堆疊的設(shè)計(jì)分割;透過矽穿孔(TSV)的布局;背面重新分配層的支援,以及可在3D平面圖上顯示熱剖面圖的功能,IMEC表示。
編譯: Joy Teng





