吳漢明創(chuàng)業(yè)感言
半導(dǎo)體芯片是搶時(shí)間的行業(yè)，我喜歡做有研究性質(zhì)的前沿技術(shù)，也一直在搶時(shí)間，我希望通過中芯國際的平臺(tái)，努力地在北京亦莊推動(dòng)中國半導(dǎo)體的發(fā)展。
“痛并快樂著，如果人生再重來一次，我還是會(huì)選擇這樣走一遍?！闭f到自己的經(jīng)歷，吳漢明深有感觸：一邊是60多個(gè)發(fā)明專利、90多篇專著和論文的豐碩成果，一邊是連續(xù)高強(qiáng)度的工作讓他的體重至今未恢復(fù)，吳漢明卻并不后悔。在他及團(tuán)隊(duì)的努力下，最新一代的32納米產(chǎn)品也將在國家重大專項(xiàng)支持下問世，達(dá)到國際主流先進(jìn)水平。
跳槽挪窩最終鎖定中國
1978年，吳漢明成為“文革”后中國科學(xué)院的第一批研究生，理學(xué)碩士、工學(xué)博士學(xué)成后，留在中科院擔(dān)任副研究員。1989年，被公派出國，進(jìn)入美國加州大學(xué)伯克利分校攻讀半導(dǎo)體等離子體工藝博士后。
1993年完成學(xué)業(yè)后，吳漢明回到中科院，但他發(fā)現(xiàn)，由于經(jīng)費(fèi)緊張，研發(fā)項(xiàng)目無法展開，一急他就直接找院長周光召，張口就要20萬元。當(dāng)時(shí)一個(gè)所的研究經(jīng)費(fèi)也往往不到幾百萬元。沒想到，周光召給了他13萬元“巨資”，吳漢明的研究拿到了國家專利，他還被破格提拔為研究員。
1995年，吳漢明到美國阿拉巴馬一家公司工作，上手就是50萬美元的項(xiàng)目，兩年便研發(fā)出一套等離子體工藝模擬的軟件，并成功銷售。但吳漢明感覺自己接觸不到最前沿的技術(shù)，于是跳槽到硅谷；1999年，“不安分”的吳漢明又加盟英特爾，但工作沒有想象的順利。
一次偶然機(jī)會(huì)，吳漢明見到中芯國際創(chuàng)始人張汝京，聽說能“直接從當(dāng)時(shí)世界最先進(jìn)的0.13微米技術(shù)做起”，他感覺中國半導(dǎo)體真的發(fā)展起來了，到了該回去的時(shí)候了。
十年連續(xù)跨越四個(gè)技術(shù)代
“有平臺(tái)，有做頭?！眳菨h明迫不及待地回國了，開始了他“人生中最精彩的十年”。
2001年，吳漢明擔(dān)任中芯國際技術(shù)研發(fā)中心先進(jìn)刻蝕部總監(jiān)，負(fù)責(zé)0.13微米刻蝕工藝部分。當(dāng)時(shí)國內(nèi)的主流技術(shù)是鋁互連，沒有一家企業(yè)會(huì)做銅互連，“如果做不了銅互連，0.13微米以下的技術(shù)就做不了，就永遠(yuǎn)進(jìn)不了納米時(shí)代。當(dāng)時(shí)很辛苦，經(jīng)常一干就是凌晨兩三點(diǎn)……”功夫不負(fù)苦心人，兩年后，中芯國際率先在中國實(shí)現(xiàn)了銅互連。
之后，中芯國際的納米技術(shù)進(jìn)入了快速發(fā)展期，接連跨越四個(gè)技術(shù)代：0.13微米、90納米、65納米、45納米。我國集成電路制造真正進(jìn)入了納米時(shí)代。
這當(dāng)中，每個(gè)技術(shù)代都有上千道工藝，其中的大部分工藝要重新試驗(yàn)，“從90納米做到65納米的時(shí)候，試驗(yàn)有三萬多次。一次試驗(yàn)成本至少幾百元，總共花了十幾個(gè)億。”
不光是成本，遇到的難題也不計(jì)其數(shù)。“比如在做鎳化硅技術(shù)時(shí)，卡住了，兩個(gè)月，橫豎都沒進(jìn)展。”吳漢明回憶，當(dāng)時(shí)，硅谷、國內(nèi)高校研究所的專家都請來了，就是沒有突破，“最后在無數(shù)次反復(fù)試驗(yàn)下，才發(fā)現(xiàn)是預(yù)清洗方法不對，工藝參數(shù)沒調(diào)好?！本驮谶@樣完全獨(dú)立自主研發(fā)下，幾百個(gè)人做了近四年才完成。
2014年32納米產(chǎn)品問世
目前，這些納米成套工藝已經(jīng)顯現(xiàn)其巨大的經(jīng)濟(jì)效益了，0.13微米產(chǎn)品累計(jì)銷售30多億元，僅一年多，65納米技術(shù)的直接產(chǎn)值達(dá)5億多元，促進(jìn)設(shè)備材料等的間接產(chǎn)值3.8億元，45納米產(chǎn)品也即將量產(chǎn)。
“32納米成套工藝技術(shù)的基本結(jié)構(gòu)已經(jīng)完成，希望2014年產(chǎn)品能問世?！眳菨h明說，32納米工藝技術(shù)將是我國半導(dǎo)體技術(shù)上的一個(gè)里程碑，“新一代芯片要求是工作電流增大，但漏電量要更小，而這兩者是矛盾的，用傳統(tǒng)的工藝做不下來，必須開發(fā)32納米，用高K金屬柵工藝技術(shù)，才可以實(shí)現(xiàn)?！眳菨h明說，今年，要讓65納米產(chǎn)品大量提升，形成更大規(guī)模的生產(chǎn)，從現(xiàn)在的每月6000片提升到超萬片；45納米產(chǎn)品要實(shí)現(xiàn)小規(guī)模量產(chǎn)。
“現(xiàn)在與國際前沿技術(shù)差了約三年，國外32納米生產(chǎn)已經(jīng)初步成功，希望2014年我們做成的時(shí)候，把差距縮短到一年。”吳漢明滿懷期待。