明導國際日前宣布，由中國政府、上海聯(lián)創(chuàng)投資管理有限公司、上海華虹（集團）有限公司、上海宏力半導體制造有限公司以及上海華虹NEC電子有限公司等合資成立的晶圓代工企業(yè)上海華力微電子有限公司采用了Calibre RET和OPC計算光刻平臺，以支持其65、55和45nm工藝的開發(fā)和生產。Mentor Calibre nmOPC與Calibre OPCverify產品是根據(jù)綜合技術標準對比選用的，Calibre方案被證明具有更高的精確度，更好的易用性,更低的擁有成本，以及更好的整體支持能力。

華力生產副廠長郭明升（Ming-Sheng Guo）表示：“作為一家新成立的晶圓代工企業(yè)，華力在制定可以投入生產的RET和OPC方案時面臨著陡峭的學習曲線和嚴峻的時間限制。明導國際憑借其對華力技術交付及技術支持方面的堅定承諾脫穎而出。我們之所以選擇明導國際作為獨家合作伙伴，在于它能夠滿足我們極具挑戰(zhàn)性的技術、時間和成本要求。我們相信該合作關系對建立在當今代工市場領域中具備競爭力的后GDSII流片流程至關重要?！?/p>

明導國際公司“從設計到晶片”事業(yè)部副總裁兼總經理Joseph Sawicki說：“最先進的技術和幫助客戶取得成功的不懈努力，使明導國際在集成電路制造領域具備優(yōu)勢。Calibre OPC/RET/MDP是業(yè)內最常用的生產應用軟件平臺，該平臺使華力擁有了完整的光掩膜數(shù)據(jù)準備流程，并能在統(tǒng)一平臺及一致的環(huán)境中進行OPC的研發(fā)和量產?！?/p>