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臺(tái)積電Q1不淡，明年業(yè)績(jī)?cè)賱?chuàng)新高可期

時(shí)間：2010-12-06 18:32:00

關(guān)鍵字：臺(tái)積電制程技術(shù) 晶圓代工 EPS

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[導(dǎo)讀]臺(tái)積電(2330)明年第一季業(yè)績(jī)預(yù)期仍淡季不淡，該公司董事長(zhǎng)張忠謀看好明年晶圓代工產(chǎn)業(yè)成長(zhǎng)14%，臺(tái)積電明年?duì)I收成長(zhǎng)幅度優(yōu)于平均值。意味臺(tái)積電明年?duì)I收、獲利再創(chuàng)新高，上周下半周外資反手買超，今早臺(tái)積電股價(jià)高檔狹

臺(tái)積電(2330)明年第一季業(yè)績(jī)預(yù)期仍淡季不淡，該公司董事長(zhǎng)張忠謀看好明年晶圓代工產(chǎn)業(yè)成長(zhǎng)14%，臺(tái)積電明年?duì)I收成長(zhǎng)幅度優(yōu)于平均值。意味臺(tái)積電明年?duì)I收、獲利再創(chuàng)新高，上周下半周外資反手買超，今早臺(tái)積電股價(jià)高檔狹盤(pán)。

繼本季不淡后，臺(tái)積電董事長(zhǎng)張忠謀再度對(duì)于下一季以及明年整體產(chǎn)業(yè)看法釋出樂(lè)觀預(yù)期；預(yù)計(jì)明年首季營(yíng)收比本季減少幅度在5%以內(nèi)，持續(xù)淡季不淡，預(yù)期2011年全球半導(dǎo)體產(chǎn)值年增5%，晶圓代工產(chǎn)成長(zhǎng)14%，臺(tái)積電營(yíng)收年成長(zhǎng)將超過(guò)14%的水平。

在12寸產(chǎn)能部份，受惠于IDM廠持續(xù)釋出訂單，臺(tái)積電2011年12寸產(chǎn)能將再增加逾三成，將由2010年底單月24萬(wàn)片提升至單月30萬(wàn)片以上。

在制程技術(shù)部分，臺(tái)積電65納米制程占營(yíng)收比重將由上季的17%提升至本季的20%，未來(lái)將朝向28納米、14納米及10納米制程技術(shù)研發(fā)。

臺(tái)積電今年全年?duì)I收預(yù)估逾4100億元，凈利預(yù)估逾1600億元，EPS約在6.25元左右；法人預(yù)期該公司明年?duì)I收成長(zhǎng)約15%，營(yíng)收上看4800億，凈利上看1800億以上，業(yè)績(jī)將再創(chuàng)下新高。

上周外資對(duì)臺(tái)積電先賣后買，單周約小幅賣超千張。上周五外資單日買超臺(tái)積電逾2.7萬(wàn)張列為買超個(gè)股首位，持股比重達(dá)73.4%。

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