日商創(chuàng)造科學(xué) 發(fā)表TSV新制程技術(shù)
[導(dǎo)讀]日商ESC大廠-日商創(chuàng)造科學(xué)(Creative Technology)公司發(fā)表最新對(duì)應(yīng)TSV等新制程所開發(fā)技術(shù),包括靜電吸盤、吸附機(jī)構(gòu)、Heater,以及客制化全系列ESC(Electric Static Chuck),并于前年成立在臺(tái)分公司,提供快速又全
日商ESC大廠-日商創(chuàng)造科學(xué)(Creative Technology)公司發(fā)表最新對(duì)應(yīng)TSV等新制程所開發(fā)技術(shù),包括靜電吸盤、吸附機(jī)構(gòu)、Heater,以及客制化全系列ESC(Electric Static Chuck),并于前年成立在臺(tái)分公司,提供快速又全方位服務(wù),積極爭(zhēng)取國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體大廠合作,并提供完整ESC解決方案。
甫于2008來(lái)臺(tái)成立辦事處的日商創(chuàng)造科學(xué)公司,于SEMICON展世貿(mào)1館B332攤位展出系列半導(dǎo)體設(shè)備零件,展出包括TSV新的制程技術(shù)與各式ESC,歡迎前往指教。
日商創(chuàng)造科學(xué)海外營(yíng)業(yè)部長(zhǎng)清水隆行表示,該公司強(qiáng)調(diào)客制化的服務(wù)流程,從產(chǎn)品的研發(fā)設(shè)計(jì)到制作中期與后段測(cè)試工程均完整涵蓋,提供雙極性靜電吸盤、加熱器、晶圓承載盤、相關(guān)零件與離子植入設(shè)備耗材等,并提供各種材料加工、表面處理、黏合與評(píng)估測(cè)試服務(wù),于展會(huì)現(xiàn)場(chǎng)做展示。
現(xiàn)與國(guó)內(nèi)外廠商如臺(tái)積電、聯(lián)電、三星、美光等持續(xù)合作,日商創(chuàng)造科學(xué)業(yè)務(wù)代表陳思樫表示,此次參加2010年國(guó)際半導(dǎo)體展,將以ESC世界大廠優(yōu)勢(shì),穩(wěn)定成長(zhǎng)提供客戶高信賴度產(chǎn)品。包括對(duì)應(yīng)TSV等新制程所開發(fā)的新技術(shù)包含靜電吸盤、吸附機(jī)構(gòu)以及Heater:1、For超薄晶圓、機(jī)械手臂(制程、搬運(yùn)用)所使用的ESC。2、可將均溫、反應(yīng)能力發(fā)揮到最大極限所使用的高、低溫Heater 以及結(jié)合靜電盤功能的Heater。3、抑制Particle產(chǎn)生的吸附機(jī)構(gòu)之提案,可用于Lithography制程,Spin Chuck、Minimum Emboss Spec部分。日商創(chuàng)造科學(xué)公司網(wǎng)址:www.creativetw.com.tw,電話:(03)550-8065。
甫于2008來(lái)臺(tái)成立辦事處的日商創(chuàng)造科學(xué)公司,于SEMICON展世貿(mào)1館B332攤位展出系列半導(dǎo)體設(shè)備零件,展出包括TSV新的制程技術(shù)與各式ESC,歡迎前往指教。
日商創(chuàng)造科學(xué)海外營(yíng)業(yè)部長(zhǎng)清水隆行表示,該公司強(qiáng)調(diào)客制化的服務(wù)流程,從產(chǎn)品的研發(fā)設(shè)計(jì)到制作中期與后段測(cè)試工程均完整涵蓋,提供雙極性靜電吸盤、加熱器、晶圓承載盤、相關(guān)零件與離子植入設(shè)備耗材等,并提供各種材料加工、表面處理、黏合與評(píng)估測(cè)試服務(wù),于展會(huì)現(xiàn)場(chǎng)做展示。
現(xiàn)與國(guó)內(nèi)外廠商如臺(tái)積電、聯(lián)電、三星、美光等持續(xù)合作,日商創(chuàng)造科學(xué)業(yè)務(wù)代表陳思樫表示,此次參加2010年國(guó)際半導(dǎo)體展,將以ESC世界大廠優(yōu)勢(shì),穩(wěn)定成長(zhǎng)提供客戶高信賴度產(chǎn)品。包括對(duì)應(yīng)TSV等新制程所開發(fā)的新技術(shù)包含靜電吸盤、吸附機(jī)構(gòu)以及Heater:1、For超薄晶圓、機(jī)械手臂(制程、搬運(yùn)用)所使用的ESC。2、可將均溫、反應(yīng)能力發(fā)揮到最大極限所使用的高、低溫Heater 以及結(jié)合靜電盤功能的Heater。3、抑制Particle產(chǎn)生的吸附機(jī)構(gòu)之提案,可用于Lithography制程,Spin Chuck、Minimum Emboss Spec部分。日商創(chuàng)造科學(xué)公司網(wǎng)址:www.creativetw.com.tw,電話:(03)550-8065。





