據(jù)市場(chǎng)調(diào)研公司IC Insights的預(yù)測(cè)，2006年全球MOS集成電路的工廠產(chǎn)能將增長(zhǎng)1,150萬(wàn)個(gè)等價(jià)200mm晶圓，僅比2000年創(chuàng)下的最大增幅低20萬(wàn)個(gè)。預(yù)計(jì)2006年總體MOS工廠產(chǎn)能將達(dá)到9,520萬(wàn)個(gè)200mm等價(jià)晶圓，比2005年8,370萬(wàn)個(gè)增長(zhǎng)14%。2000年，總體MOS工廠產(chǎn)能大增24%，接近6,150萬(wàn)個(gè)200mm等價(jià)晶圓，相當(dāng)于比上一年增加1,170萬(wàn)個(gè)。產(chǎn)能大幅上升，加之2001年市場(chǎng)需求放緩，當(dāng)時(shí)導(dǎo)致半導(dǎo)體出現(xiàn)有史以來(lái)最嚴(yán)重的衰退。

但I(xiàn)C Insights公司認(rèn)為，這次產(chǎn)能增長(zhǎng)一直相對(duì)溫和，而且時(shí)間跨度達(dá)數(shù)年，表明集成電路制造商比較謹(jǐn)慎。例如，在2004年的繁榮時(shí)期，IC產(chǎn)業(yè)的MOS產(chǎn)能僅增長(zhǎng)10%。2005年增加11%。產(chǎn)能利用率一直相對(duì)穩(wěn)定，預(yù)計(jì)2006年為90.1%，高于2005年的89.7%，低于2004年的92.2%。2000年IC產(chǎn)業(yè)MOS工廠的產(chǎn)能利用率高達(dá)95.3%，但2001年降至71.9%。IC Insights的數(shù)據(jù)庫(kù)和預(yù)測(cè)顯示，1994-2010年產(chǎn)業(yè)的平均產(chǎn)能利用率為88%。

雖然今年MOS產(chǎn)能增幅不足以導(dǎo)致全球產(chǎn)能過(guò)度增加，但仍然足以抑制IC平均銷售價(jià)格的上漲(特別是MOS存儲(chǔ))，其影響可能持續(xù)到2007年年底。