近日，NEC電子公司、索尼公司和東芝公司宣布，三方已達成協(xié)議，將聯(lián)合開發(fā)基于 45 納米工藝的新一代大規(guī)模集成電路系統(tǒng)處理技術(shù)。

隨著數(shù)碼消費、手機和通信領域應用的不斷發(fā)展，為了獲得更高的性能和更多的功能，對復雜的大規(guī)模集成電路系統(tǒng)技術(shù)提出了更高的要求，例如，更快的數(shù)據(jù)處理速度、更小的功耗和芯片尺寸。 為了滿足這些需求，處理技術(shù)的微型化變得越發(fā)關(guān)鍵和復雜。

前沿的大規(guī)模集成電路系統(tǒng)處理技術(shù)的發(fā)展需要研發(fā)資源的巨大投入。世界范圍內(nèi)的許多半導體公司正緊密合作，致力于更加高效的研發(fā)。

據(jù)悉，2004 年 2 月，索尼和東芝曾宣布合作開發(fā) 45 納米大規(guī)模集成電路系統(tǒng)處理技術(shù)，并在位于日本橫濱的東芝“先進微電子中心”進行研發(fā)。其研發(fā)成果被廣泛報道并得到業(yè)界認可。同樣，NEC電子和東芝在2005年11月宣布雙方達成協(xié)議，將聯(lián)合開發(fā) 45 納米處理技術(shù)，并開始協(xié)商合作的具體細節(jié)。

作為三方協(xié)議的結(jié)果，NEC電子的45納米開發(fā)隊伍將加入索尼和東芝正在進行的研發(fā)，并在“先進微電子中心”開展 45 納米技術(shù)的研發(fā)工作。通過整合三方的研發(fā)資源， NEC 電子、索尼和東芝將提高開發(fā)效率、加速研發(fā)進程，更快地實現(xiàn)基于 45 納米工藝的大規(guī)模集成電路系統(tǒng)處理技術(shù)。