目前的垂直磁記錄(PWR)技術預計很快將達到每平方英寸1Tb的物理密度極限。不過不用擔心，科學家已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了一種降低硬盤盤片上磁點間隙，同時又不會讓磁點相互影響的新方法。

這種“直接自我排列”新技術可以讓硬盤存儲密度再提升五倍，讓“古老”的硬盤技術增加4-5年的壽命。

簡單來說，新技術就是在磁點之間形成微型“墻壁”。研究人員使用的是不具備磁性，且可以自動排列成“高度規(guī)則點或線樣式”的異量分子聚合物。當處于一個放置“標記物”的表面時，這種聚合物可以自動形成某種樣式的墻，并且讓磁點以比現(xiàn)有硬盤更加緊密的方式排列。

當然，一種新技術能否成功取決于是否能夠被大規(guī)模量產(chǎn)。研究人員表示他們正在和日立硬盤合作評估“直接自我排列”技術能否被經(jīng)濟地應用于硬盤生產(chǎn)中。在實驗室中，聚合物在“某種情況下”能在30秒內完成自動排列。