大日本印刷與美國Molecular Imprints就在推進(jìn)22nm級以后納米壓印技術(shù)實用化進(jìn)程中建立戰(zhàn)略性合作關(guān)系達(dá)成了一致。

納米壓印技術(shù)與ArF液浸曝光及EUV曝光等光刻技術(shù)相比，可削減設(shè)備成本。但因其是用模板壓模后轉(zhuǎn)印電路圖形，所以量產(chǎn)時需要定期更換模板。因此，該公司希望成本能比模板進(jìn)一步降低。

為了解決該課題，此次的合作中兩公司將共同開發(fā)在硅晶圓上轉(zhuǎn)印圖形用納米壓印模板復(fù)制技術(shù)。兩公司稱，將應(yīng)用現(xiàn)有的光掩模制造技術(shù)，確立可高效復(fù)制及制造模板的技術(shù)。

此前，大日本印刷在納米壓印技術(shù)方面，一直致力于開發(fā)用于在底板上形成電路圖形的石英玻璃制模板。2005年，該公司出資從事納米壓印技術(shù)開發(fā)的Molecular，建立了Molecular系統(tǒng)用模板的開發(fā)銷售體制。并且于07年成功開發(fā)了支持18nm級半導(dǎo)體工藝的模板。大日本印刷將在2011年底之前確立模板復(fù)制技術(shù)。力爭2012年度之前量產(chǎn)采用于半導(dǎo)體內(nèi)存等。