新思科技日前宣布：TSMC認證Synopsys Galaxy™ Design Platform中的全套產(chǎn)品都適用于大部分當前版本的12nm FinFET制程工藝。這個12nm認證包含非常多的設(shè)計附屬功能，包括適合最新FinFET制程的繞線規(guī)則、物理驗證runset、準確簽收提取技術(shù)文件、SPICE相關(guān)時序和可互操作制程設(shè)計工具包(iPDK)。Synopsys Custom Compiler™設(shè)計解決方案通過iPDK實現(xiàn)。

為了加速訪問這個節(jié)能的高密度制程，IC Compiler™ II布局繞線系統(tǒng)支持與16FFC IP共存的新的標準元件架構(gòu)。兩家企業(yè)近期合作實現(xiàn)了IC Compiler II核心布局引擎的增強，確保了最大的利用率，同時盡量減小布局碎片化和元件移位。適合12nm的iPDK允許設(shè)計人員使用Custom Compiler的版圖協(xié)助功能縮短創(chuàng)建FinFET版圖所用的時間。

TSMC設(shè)計架構(gòu)營銷部資深總監(jiān)Suk Lee表示：“這個節(jié)能的高密度節(jié)點為客戶提供了大量機會，允許他們交付高度差異化的產(chǎn)品。我們與Synopsys的持續(xù)合作將幫助加快設(shè)計人員熟悉12nm制程工藝。”

Synopsys設(shè)計部產(chǎn)品營銷副總裁Bijan Kiani表示：“Synopsys與TSMC的長期合作仍然是加速新的工藝制程節(jié)點的普遍應(yīng)用。由于Galaxy Design Platform通過了12nm節(jié)點認證，我們共同的客戶能夠縮短開發(fā)時間和上市時間。”

亮點：

· IC Compiler II布局繞線和IC Validator物理簽收完全支持12nm物理實現(xiàn)流程

· IC Compiler II支持最近開發(fā)的面積優(yōu)化技術(shù)，包括的新標準元件結(jié)構(gòu)

· Custom Compiler可以用于TSMC12nm工藝制程，且立即提供制程設(shè)計工具包(PDK)