芯片設備制造商Tegal日前表示，該公司已經(jīng)以大約360萬美元售出超過30項的納米沉積(Nanolayer deposition, NLD)專利。

Tegal并未透露專利購買者的細節(jié)。該公司曾在去年9月時宣布將尋求出售專利。2010年3月，該公司也曾出售其原有的薄膜蝕刻和物理氣相沉積產(chǎn)品線給OEM Group Inc.;另外，去年稍早該公司也將深層反應離子蝕刻設備出售給SPTS。

Tegal表示，該公司仍希望能以剩下的NLD技術售價能高于400萬美元。目前該公司仍就其專利組合中的Lot 4部份進行討論，這部份主要是針對銅阻擋層和low-k電介質(zhì)技術。

“IC設備制造商對Lot 4比較有興趣，而設備制造商則大多對Lot 1~3有興趣，”Tegal技術長Robert Ditizio在一份聲明中表示。