在2010年12月10日于北京召開的“中國·北京2010年國際平板顯示產(chǎn)業(yè)高峰論壇（FPD International CHINA 2010 / Summit and Seminar）”的技術分科會上，除了探討有機EL、氧化物半導體、3D顯示器等熱門技術的“高端技術講座”外，同時還舉辦了傳授面板部件材料與制造工藝最新技術的“技術講座”。雖然所講為基礎性內(nèi)容，但會場內(nèi)依然涌進了200多位聽眾。年輕的技術人員為了不錯過講師所說的每一個字，一邊聽講一邊認真做筆記的身影給人留下深刻印象。

圖：中國年輕FPD技術人員坐滿講堂（點擊放大）


發(fā)表FPD產(chǎn)業(yè)長期發(fā)展藍圖，“成長仍將持續(xù)”

在日本特邀講師的主題演講中，從事FPD業(yè)務近20年的兩位講師介紹了FPD產(chǎn)業(yè)未來的長期發(fā)展藍圖。演講人是在日本IBM長年從事液晶面板業(yè)務的 Tech and Biz總經(jīng)理北原洋明和在AKT長年從事液晶制造裝置業(yè)務的Advanced Data Research（ADR）總經(jīng)理高多清作。兩人在演講中都明確認為“FPD產(chǎn)業(yè)今后仍將持續(xù)成長”。

在展示到2030年為止的FPD產(chǎn)業(yè)發(fā)展藍圖時，北原表示今后“怎樣保證綠色”將成為重點。因此，光學薄膜和背照燈等影響FPD光利用率的面板部件材料的開發(fā)將變得尤為重要。北原介紹說：“三星將面板透射率的目標從4～6％提高到8％、夏普采用光配向技術都是綠色日趨重要的表現(xiàn)”。

高多的主題演講題為“前途依然光明的液晶產(chǎn)業(yè)”，他為中國聽眾送上了鼓勵的話語。演講內(nèi)容是高多根據(jù)近20年經(jīng)驗，對FPD產(chǎn)業(yè)今后20年所做展望。高多預測：“現(xiàn)在32英寸電視的平均價格是400美元，但根據(jù)過去的經(jīng)驗推測，到7年后的2017年，面積是其4倍的64英寸電視的平均價格將降至400 美元，F(xiàn)PD電視市場按面積計算將增加到現(xiàn)在的4倍”?！?025年將再增加4倍，到2035年還將再增加4倍”（高多）。高多鏗鏘有力地表示：“生產(chǎn)線的換代雖然必要，但只要努力削減成本，F(xiàn)PD市場就會無限拓展”。

中日韓專家講解面板部件材料最新技術

對于面板部件材料和制造工藝的各項技術，來自日本、韓國、中國的專家在峰會上分別進行了講解。

面板部件材料方面，北京科技大學教授楊槐使用手性向列相（chiral nematic phase）液晶材料的最新研發(fā)發(fā)表了主題演講。介紹了備受期待的新一代液晶技術——藍相（blue phase）穩(wěn)定化技術、反射型電子紙的顯示元件、提升背照燈亮度的反射型偏光膜應用等。從中可以讓人感受到中國正在穩(wěn)步地推進液晶材料的基礎性研究。

光刻膠廠商東進世美肯（韓國Dongjin Semichem）的常務理事金柄郁（Byun Uk Kim）就2015～2020年的印刷電子、柔性電子技術發(fā)表了演講。并且就目前使用玻璃基板的光刻技術指出，使掩模數(shù)量從4張減少到3張的技術、提高開口率所需的有機絕緣膜、Cu布線制程用藥液、無掩模技術的開發(fā)等將趨于重要。

經(jīng)營液晶面板配向膜和彩色濾光片彩色光阻（color resist）等材料的JSR顯示器研究所所長梶田徹就新一代FPD材料發(fā)表了演講。梶田表示，在FPD材料的研究開發(fā)中，為了在有助于降低面板成本的同時獲得規(guī)模效益，實現(xiàn)新一代高附加值面板，開展技術革新是必經(jīng)之路。梶田以“綠色與環(huán)境”為關鍵詞，按照配向膜、彩色光阻、用于提高開口率的有機膜、光阻間隙（Photo Spacer）的順序，對各種材料的開發(fā)狀況進行了講解。

在中國從事液晶面板工廠設計的世源科技工程的總經(jīng)理杜曉陽（Xiaoyang Du）就怎樣在短期內(nèi)建成大規(guī)模工廠給出了廣泛的建議。杜曉陽講解了中國的特殊情況，表示中國與他國相比規(guī)定嚴格，取得各項批準需要耗費大量時間，對構筑信息交流平臺，從設計階段開始推進標準化的重要性等方面進行了介紹。據(jù)悉該公司包攬了中國全部TFT液晶面板工廠的設計。

住友化學集團住化電子材料科技（無錫）的技術顧問林成年就該公司在中國的FPD材料業(yè)務發(fā)表了演講。該公司目前在上海工廠和無錫工廠生產(chǎn)偏光板，在合肥工廠生產(chǎn)藥液。今后，該公司計劃配合京東方光電科技的第8.5代工廠的開工，于2011年第三季度成立北京工廠，開始供應偏光板。此外，新業(yè)務方面，林成年表示該公司還將著手導光板、藥液、鋁靶等業(yè)務。

介紹低溫多晶體硅再結晶，TFT曝光和蝕刻的最新技術

制造工藝方面，首先，首爾大學教授朱承基（Seung-Ki Joo）就降低低溫多晶體硅TFT基板成本所需的MILC（metal-induced lateral crystallization）技術的最新研發(fā)發(fā)表了主題演講。朱承基表示，作為備受期待的新一代FPD，在有機EL面板的發(fā)展中，采用MILC技術的高性能、低成本低溫多晶體硅TFT基板“非常重要”。朱承基認為，MILC技術比現(xiàn)在主流的準分子激光退火（excimer laser anneal）技術可靠性高，而且工藝簡單，成本低，成品率高。并且便于在底柵TFT的生產(chǎn)中使用。

接著，佳能液晶機器設計中心所長滝澤毅結合影像資料，介紹了該公司自主開發(fā)的支持大型玻璃基板的鏡像投影方式曝光裝置。佳能現(xiàn)在擁有支持第5代、第6 代、第8代基板的曝光裝置。在中國市場上，2010年的市場份額高達88％。滝澤還介紹了開發(fā)支持第10代和第11代的裝置的基本方針。在光學投影系統(tǒng)的開發(fā)中，佳能將分別推動光學部件的大型化、加工設備的全新開發(fā)、光掩模大型化的應對、曝光光源的大型化等。在裝置的開發(fā)中，將進行一步發(fā)展佳能的“智能平臺”方式。為實現(xiàn)輕量化曝光臺將采用新材料。

最后，東電電子FPD業(yè)務本部FPD部門副總經(jīng)理松浦次彥就干法蝕刻設備的涂膠顯影設備的技術動向發(fā)表了演講。關于干法蝕刻，松浦首先介紹了支持大型基板中面臨的課題。松浦指出，最大的課題在于兼顧等離子的均勻性和蝕刻處理速度。而且，第10代使用的設備不同于第8代之前，需要在客戶方進行組裝。因此，未來向中國提供支持第10代的設備時，中方需要準備組裝的基礎設施。其他開發(fā)課題方面，松浦舉出了對于備受期待的后非晶體Si——氧化物半導體 IGZO（In-Ga-Zn-O）。涂膠顯影設備方面，松浦對確保60秒以下的間歇時間、確保4張掩模制造中光刻膠膜厚的均勻性、對2μm線寬的支持等方面進行了講解。重點講解了把玻璃基板的氣浮和搬運技術應用于涂膠中的效果。最后，松浦介紹了在昆山市設立的制造設備生產(chǎn)基地“東電光電半導體設備（昆山）有限公司”，表示“將以此為起點推進合作”。（記者：田中 直樹） [!--empirenews.page--]