旭化成E-Materials開(kāi)發(fā)出了在樹脂薄膜上形成大量間距及高度為數(shù)百nm級(jí)凹凸的“納米構(gòu)造薄膜”，并在“FPD International 2010”上進(jìn)行了展示。用途是作為防反射薄膜。

據(jù)旭化成E-Materials介紹，通過(guò)采用納米構(gòu)造，可針對(duì)可視光直至紅外線的大范圍波長(zhǎng)的光線降低反射率。而采用原來(lái)基于多層膜的防反射薄膜時(shí)，為了擴(kuò)大薄膜能夠防止反射的范圍，需要增加膜的層數(shù)，由此會(huì)導(dǎo)致成本增加。采用此次的方法，可通過(guò)卷對(duì)卷式納米壓印技術(shù)連續(xù)生產(chǎn)，能夠削減成本。

對(duì)可視光的反射率為0.5％以下。作為基材的樹脂薄膜可使用PET、TAC及PC等。旭化成E-Materials希望能在2010年內(nèi)或2011年初開(kāi)始樣品供貨。另外，此次利用的納米壓印技術(shù)還應(yīng)用在了該公司的線柵偏光膜產(chǎn)品上。（記者：木村 雅秀）

利用納米構(gòu)造薄膜（左）降低反射。（點(diǎn)擊放大）

納米構(gòu)造薄膜的展示面板。（點(diǎn)擊放大）