應(yīng)材先進(jìn)化學(xué)氣相沉積薄膜推動(dòng)高解析顯示器發(fā)展
[導(dǎo)讀]應(yīng)用材料公司(Applied Materials)宣布推出全新的電漿增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積薄膜技術(shù),這項(xiàng)技術(shù)可應(yīng)用在新一代的平板計(jì)算機(jī)和電視上,制造出效能更佳、高分辨率的顯示器。這些先進(jìn)絕緣薄膜是以應(yīng)用材料公司的 AKT 電漿強(qiáng)化
應(yīng)用材料公司(Applied Materials)宣布推出全新的電漿增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積薄膜技術(shù),這項(xiàng)技術(shù)可應(yīng)用在新一代的平板計(jì)算機(jī)和電視上,制造出效能更佳、高分辨率的顯示器。這些先進(jìn)絕緣薄膜是以應(yīng)用材料公司的 AKT 電漿強(qiáng)化化學(xué)氣相沉積平臺(tái)為基礎(chǔ),能夠發(fā)揮金屬氧化物晶體管的效能,制造出廣受消費(fèi)大眾喜愛的體積更小、像素切換速度更快的高分辨率屏幕。
應(yīng)用材料公司新推出的電漿增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積薄膜,能提供金屬氧化物晶體管所需的介電層接口,將氫雜質(zhì)減到最少,以改善晶體管的穩(wěn)定性及傳送優(yōu)化的屏幕效能。AKT-電漿增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)可將二氧化硅 (SiO2) 薄膜,精準(zhǔn)均勻地沉積在面積最大達(dá) 9 平方公尺的玻璃板上,這是提高生產(chǎn)良率及降低制造成本所需的關(guān)鍵能力。
除了新推出電漿增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積薄膜以外,應(yīng)用材料公司目前也正在開發(fā)先進(jìn)物理氣相沉積解決方案,其中包括用于金屬氧化物制造的銦鎵鋅氧化物沉積。透過其最新的旋轉(zhuǎn)陰極數(shù)組技術(shù),應(yīng)用材料公司展現(xiàn)出擁有高均勻度、同質(zhì)化且低瑕疵率的主動(dòng)層沉積技術(shù),比目前現(xiàn)有的物理氣相沉積解決方案產(chǎn)量更高,材料耗損成本也更低。





