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[導(dǎo)讀]21ic訊 橫跨多重電子應(yīng)用領(lǐng)域、全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體供應(yīng)商意法半導(dǎo)體(STMicroelectronics,簡(jiǎn)稱(chēng)ST) 宣布將擔(dān)任Lab4MEMS II項(xiàng)目負(fù)責(zé)人。Lab4MEMS II 是以第一代Lab4MEMS項(xiàng)目 (于2013年4月啟動(dòng)) 的的成功經(jīng)驗(yàn)為基礎(chǔ)而被

21ic訊 橫跨多重電子應(yīng)用領(lǐng)域、全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體供應(yīng)商意法半導(dǎo)體(STMicroelectronics,簡(jiǎn)稱(chēng)ST) 宣布將擔(dān)任Lab4MEMS II項(xiàng)目負(fù)責(zé)人。Lab4MEMS II 是以第一代Lab4MEMS項(xiàng)目 (于2013年4月啟動(dòng)) 的的成功經(jīng)驗(yàn)為基礎(chǔ)而被展期的第二代項(xiàng)目,主要研究課題是整合MEMS[1] 和微光學(xué) (Micro-optics) 的微光電機(jī)械系統(tǒng) (MOEMS,Micro-Opto-Electro-Mechanical Systems),該系統(tǒng)可通過(guò)機(jī)械光電集成化系統(tǒng)發(fā)現(xiàn)或控制光信號(hào),同時(shí)保留原項(xiàng)目為日后升級(jí)開(kāi)發(fā)的下一代MEMS元件試生產(chǎn)線(xiàn)。下一代的MEMS元件通過(guò)應(yīng)用壓電 (piezoelectric) 或磁材料和3D封裝等先進(jìn)技術(shù),大幅度強(qiáng)化了產(chǎn)品的性能。如同第一代項(xiàng)目一樣,Lab4MEMS II同樣是由納米電子行業(yè)公私合營(yíng)組織:歐洲納米計(jì)劃顧問(wèn)委員會(huì) (ENIAC,European Nanoelectronics Initiative Advisory Council) 合作組織(JU,Joint Undertaking) 所發(fā)起。

Lab4MEMS II是一個(gè)耗資2600萬(wàn)歐元 (3000萬(wàn)美元) 的項(xiàng)目,合作組織包括來(lái)自9個(gè)歐洲國(guó)家的20個(gè)工業(yè)、學(xué)術(shù)和科研組織。憑借第一代Lab4MEMS項(xiàng)目打下的成功基礎(chǔ),Lab4MEMS II項(xiàng)目委托意法半導(dǎo)體擔(dān)任項(xiàng)目協(xié)調(diào)人,為研發(fā)活動(dòng)提供完整的制造、技術(shù)和組織服務(wù),引領(lǐng)微光電機(jī)械系統(tǒng)的研究發(fā)展,保證歐洲MEMS工業(yè)在世界的領(lǐng)先地位。

意法半導(dǎo)體擁有近1000項(xiàng)MEMS專(zhuān)利權(quán),產(chǎn)品銷(xiāo)量已突破80億顆,內(nèi)部日產(chǎn)量超過(guò)400萬(wàn)顆,這讓意法半導(dǎo)體成為歐洲MEMS項(xiàng)目負(fù)責(zé)人的最佳人選。 Lab4MEMS II項(xiàng)目的主要研究目標(biāo)是采用光學(xué)和標(biāo)準(zhǔn)微加工技術(shù)進(jìn)行設(shè)計(jì)、制造及測(cè)試各種器件,包括光開(kāi)關(guān) (optical switche)、微反射鏡陣列 (micro-mirror)、光交叉連接器 (optical cross-connect)、激光器、微透鏡 (micro lenses),以縮減器件尺寸,制造更先進(jìn)的光學(xué)系統(tǒng)。微光電系統(tǒng)是研發(fā)未來(lái)高價(jià)值商用產(chǎn)品的理想平臺(tái),例如光開(kāi)關(guān)、微反射鏡器件和動(dòng)態(tài)顯示器 (dynamic display)、光學(xué)雙穩(wěn)態(tài)器件 (bi-stable)、光閘 (optical shutter),這些光學(xué)器件可用于微型投影機(jī)、激光掃描儀、新一代人機(jī)界面以及微型光譜儀 (micro-spectrometer)。該項(xiàng)目以實(shí)現(xiàn)最佳化的單軸雙反射鏡 (dual single-axis mirror) 的制程為目標(biāo),并致力于研究開(kāi)發(fā)雙軸單鏡的各種應(yīng)用可能性。

Lab4MEMS II是ENIAC JU簽定的關(guān)鍵使能技術(shù) (KET,Key Enabling Technologies) 試生產(chǎn)線(xiàn)項(xiàng)目,旨在于開(kāi)發(fā)對(duì)社會(huì)影響巨大的技術(shù)和應(yīng)用。意法半導(dǎo)體歐洲研發(fā)與公共事務(wù)部項(xiàng)目經(jīng)理Roberto Zafalon表示:“ENIAC JU 研究項(xiàng)目的宗旨與意法半導(dǎo)體利用科技提高人們生活品質(zhì)的價(jià)值觀和承諾完全一致。微光電機(jī)械系統(tǒng)是一項(xiàng)很有前景的多功能技術(shù),能夠使關(guān)鍵的光學(xué)系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)小型化,使項(xiàng)目合作方和包括ENIAC成員國(guó)在內(nèi)的利益相關(guān)者從中受益。我們期望開(kāi)發(fā)成果最終可轉(zhuǎn)化為促進(jìn)長(zhǎng)期的經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng),創(chuàng)造高價(jià)值知識(shí)型就業(yè)機(jī)會(huì)的動(dòng)力,進(jìn)一步促進(jìn)經(jīng)濟(jì)繁榮并造福社會(huì)。”

Lab4MEMS II試生產(chǎn)線(xiàn)將擴(kuò)大意法半導(dǎo)體 Agrate Brianza的 200mm晶片制造廠(chǎng)的產(chǎn)能,并在現(xiàn)有技術(shù)組合中增加光學(xué)技術(shù)。此外,該生產(chǎn)線(xiàn)還將有助于意法半導(dǎo)體提升這些戰(zhàn)略性技術(shù)的實(shí)際研發(fā)經(jīng)驗(yàn),同時(shí)整合科研能力與各種微型智能系統(tǒng)芯片的研制能力。不僅如此,該項(xiàng)目還將評(píng)估晶片未來(lái)升級(jí)到300mm的潛在優(yōu)勢(shì)和影響。

ENIAC JU是一個(gè)公私合營(yíng)的產(chǎn)學(xué)聯(lián)盟,成員包括ENIAC成員國(guó)、歐盟和歐洲納米電子技術(shù)研究協(xié)會(huì) (AENEAS,Association for European Nanoelectronics Activities)。目前該組織通過(guò)競(jìng)標(biāo)的形式為其研發(fā)項(xiàng)目提供大約18億歐元的研發(fā)經(jīng)費(fèi)。意法半導(dǎo)體負(fù)責(zé)的Lab4MEMS II項(xiàng)目于2013年秋季中標(biāo),2014年11月啟動(dòng)。

除意法半導(dǎo)體外,Lab4MEMS II 項(xiàng)目合作方還包括:Politecnico di Torino and di Milano; Consorzio Nazionale Interuniversitario per la Nanoelettronica; CNR-IMM MDM; Commissariat Al Energie Atomique Et Aux Energies Alternatives; ARKEMA SA; University of Malta; Okmetic Oyj; MURATA Electronics; VTT Memsfab Ltd; Teknologian tutkimuskeskus VTT; Aalto University; KLA-Tencor ICOS; University POLITEHNICA of Bucharest - CSSNT; Instytut Technologii Elektronowej; Warsaw; Stiftelsen SINTEF; Polewall AS; Besi Austria GmbH。

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