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[導(dǎo)讀]NVIDIA再下一代的顯卡代號Ampere安培,將升級到7nm工藝,雖然性能還是未知數(shù),但是7nm工藝的一個好處就是核心面積大幅降低,現(xiàn)在754mm2的GV102或者TU102核心面積將降低到440mm2左右。

NVIDIA上周發(fā)布了圖靈架構(gòu)的新一代GeForce RTX顯卡,主要有RTX 2080 Ti、RTX 2080及RTX 2070三款顯卡,它們使用的是12nm FFN工藝的Turing圖靈核心。圖靈架構(gòu)顯卡帶來了全新的光線追蹤渲染技術(shù),不過它的架構(gòu)、工藝跟Volta變化并不是很大,而且這代卡主打高端市場,中低端產(chǎn)品可能不會有的。NVIDIA再下一代的顯卡代號Ampere安培,將升級到7nm工藝,雖然性能還是未知數(shù),但是7nm工藝的一個好處就是核心面積大幅降低,現(xiàn)在754mm2的GV102或者TU102核心面積將降低到440mm2左右。

 

 

3DCenter網(wǎng)站在上周的一篇文章中總結(jié)了NVIDIA公司2016-2020年的GPU芯片路線圖,Pascal架構(gòu)的那一代不用說了,主要是新的Volta/Turing 12nm芯片及未來的Ampere 7nm芯片。

 

 

他們這個路線圖其實(shí)也不是最近才有的了,之前3DCenter就做過一個匯總,不同的是這次做了更直觀的圖表,在12nm工藝的Volta/Turing顯卡中,目前主要有三種核心——GV100的核心面積高達(dá)815mm2,GV102也就是現(xiàn)在的TU102核心是754mm2,GV014也就是TU104核心面積他們估算的是500mm2,實(shí)際上我們之前也做過精確測算,核心面積在530-550mm2左右。

Volta/Turing架構(gòu)的芯片可能就只有這三款了,之前一直傳聞還有RTX 2060顯卡,不過現(xiàn)在也不確定一定會有,12nm節(jié)點(diǎn)的GPU架構(gòu)更適合高性能計算及AI運(yùn)算,圖靈雖然增加了游戲用的光線追蹤核心,但是總體還是Volta的架構(gòu),核心面積比Pascal這一代都大多了,成本很高,對低端產(chǎn)品更不利。

主流市場玩家還是等下一代的7nm工藝Ampere顯卡吧,雖然現(xiàn)在還沒影子,不過3DCenter根據(jù)7nm工藝的特點(diǎn)做了估算,使用新工藝之后安培架構(gòu)的GPU核心面積大幅降低,GA100會降至550mm2左右,GA102核心降至440mm2,GA104核心只有290mm2,而主流市場的GA106只有190mm2、GA107則是120mm2,入門級的GA108核心只有67mm2。

對比來看的話,7nm安培GPU核心面積同比下降了大概30-40%,這對降低成本以及制造難度都有幫助。

NVIDIA的7nm GPU也將是臺積電代工,在7nm節(jié)點(diǎn)臺積電也準(zhǔn)備了多個分發(fā),7nm高性能工藝已經(jīng)可以用來給AMD代工高端CPU了。根據(jù)臺積電消息,與16nm FF工藝(12nm FFN工藝也是16nm工藝的改進(jìn)版)相比,臺積電的7nm工藝(代號N7)將提升35%的性能,降低65%的能耗,同時晶體管密度是之前的三倍。2019年初則會推出EUV工藝的7nm+(代號N7+)工藝,晶體管密度再提升20%,功耗降低10%,不能性能沒有變化。

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