訊：10月31日消息，在英特爾目前面臨的威脅中，最大的威脅莫過于摩爾定律的失效。摩爾定律預測，芯片上集成的晶體管數(shù)量每2年翻一番。芯片上集成的晶體管越多，芯片處理能力就越強大，這是過去數(shù)十年來計算機處理能力越來越強大、尺寸越來越小的根本原因。

但部分物理學家表示，除非出現(xiàn)重大技術突破，摩爾定律的“大限”即將到來。英特爾芯片上晶體管的尺寸已經(jīng)相當小，它們的性能瀕臨受到量子力學影響的邊緣。

英特爾首席執(zhí)行官科再奇(Brian Krzanich)認為，一種沒有經(jīng)過實踐驗證的全新技術——EUV(extreme ultraviolet lithography，超紫外光刻)將能解決這一問題。EUV有助于英特爾繼續(xù)推出更小、更快和更節(jié)能的芯片。但是，英特爾首先必須要解決如何將EUV用于商業(yè)化生產(chǎn)的問題。

令人遺憾的是，這是一個典型的“知易行難”的問題。自1997年以來，英特爾一直在研發(fā)EUV。自荷蘭ASML公司2009年開發(fā)出適合EUV的光源技術后，EUV技術一直沒有什么重大進展。這也是英特爾去年夏季對ASML投資41億美元的原因。

在開發(fā)功能更強大芯片的道路上，英特爾曾面臨無數(shù)挑戰(zhàn)和障礙，但它從未停滯不前。英特爾在今年的英特爾開發(fā)商論壇上展示了配置14納米工藝Broadwell芯片的PC。英特爾承諾明年初發(fā)售Broadwell芯片，不過科再奇在最近的財報分析師電話會議上承認，英特爾尚未完全掌握生產(chǎn)Broadwell芯片所需要的技術。

英特爾計劃2015年推出10納米工藝芯片，2017年推出7納米工藝芯片。相比之下，人類血細胞的大小是7000納米，DNA的大小是2.5納米。英特爾沒有證實在推出這些芯片時會采用EUV工藝。出于競爭的原因，英特爾很少討論其芯片制造工藝。