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[導讀]【導讀】先進的SiC工藝和超薄晶圓是英飛凌提升功率器件效率的兩條途徑,至于大家談論較多的GaN工藝,Mittal表示,英飛凌會保持研發(fā)與跟蹤,也提供小批量生產,但是基于目前的成本太高,還不適合于大規(guī)模量產。英飛凌

【導讀】先進的SiC工藝和超薄晶圓英飛凌提升功率器件效率的兩條途徑,至于大家談論較多的GaN工藝,Mittal表示,英飛凌會保持研發(fā)與跟蹤,也提供小批量生產,但是基于目前的成本太高,還不適合于大規(guī)模量產。英飛凌會持續(xù)對以上兩個工藝進行投資,推動功率器件的創(chuàng)新。

摘要:  先進的SiC工藝和超薄晶圓是英飛凌提升功率器件效率的兩條途徑,至于大家談論較多的GaN工藝,Mittal表示,英飛凌會保持研發(fā)與跟蹤,也提供小批量生產,但是基于目前的成本太高,還不適合于大規(guī)模量產。英飛凌會持續(xù)對以上兩個工藝進行投資,推動功率器件的創(chuàng)新。

關鍵字:  SiC工藝,  超薄晶圓,  英飛凌,  功率器件

除了在SiC工藝上的領先外,英飛凌在超薄晶圓片工藝上也不斷開拓,處于領先地位。作為IGBT的領軍者,英飛凌一直進行持續(xù)不斷地投資與創(chuàng)新,其中包括投資12英寸模擬晶圓廠和超薄晶圓?!拔覀兠磕暧谐^9億歐元的投入,主要是研發(fā)與生產?!?/P>

Mittal表示。IGBT由于雙面都是有源的,因此厚度決定了開關損耗,英飛凌的超薄晶圓技術不斷提升,目前已開發(fā)出70μm厚度的晶圓(300mm),將開關損耗降至最低,而根據英飛凌的Roadmap,未來晶圓將進一步縮減至40μm?!跋鄬模瑢κ值腎GBT還在采用120μm的晶園?!彼f。

先進的SiC工藝和超薄晶圓是英飛凌提升功率器件效率的兩條途徑,至于大家談論較多的GaN工藝,Mittal表示,英飛凌會保持研發(fā)與跟蹤,也提供小批量生產,但是基于目前的成本太高,還不適合于大規(guī)模量產。英飛凌會持續(xù)對以上兩個工藝進行投資,推動功率器件的創(chuàng)新。

這里有還一個重要信息要公示一下,也就是從今年十月一日開始,現(xiàn)任CEO Peter Bauer將由于身體健康方面的原因退休,新的CEO為在英飛凌服務多年的Reinhard Ploss博士,并會繼續(xù)將高能效、交通與安全作為英飛凌發(fā)展的三大重點領域。

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