【導(dǎo)讀】美國(guó)新墨西哥大學(xué)(University of New Mexico，UNM)的技術(shù)授權(quán)部門UNM.STC，日前向美國(guó)聯(lián)邦法院控告英特爾(Intel)侵犯該校所持有的雙重圖形微影(double patterning lithography)技術(shù)專利。在6月份時(shí)UNM.STC也曾以相同的名義，向美國(guó)國(guó)際貿(mào)易委員會(huì)(ITC)控告臺(tái)積電(TSMC)與三星電子(Samsung Electronics)。

美國(guó)新墨西哥大學(xué)(University of New Mexico，UNM)的技術(shù)授權(quán)部門UNM.STC，日前向美國(guó)聯(lián)邦法院控告英特爾(Intel)侵犯該校所持有的雙重圖形微影(double patterning lithography)技術(shù)專利。在6月份時(shí)UNM.STC也曾以相同的名義，向美國(guó)國(guó)際貿(mào)易委員會(huì)(ITC)控告臺(tái)積電(TSMC)與三星電子(Samsung Electronics)。

但STC總裁兼執(zhí)行官Lisa Kuuttila表示，在臺(tái)積電與三星同意取得技術(shù)授權(quán)后，該機(jī)構(gòu)已經(jīng)撤回告訴；而根據(jù)STC說法，瑞薩電子(Renesas Electrinics)、海力士半導(dǎo)體(Hynix)與東芝(Toshiba)也有支付授權(quán)費(fèi)用以使用上述技術(shù)。不過Kuuttila不愿透露技術(shù)授權(quán)協(xié)議的細(xì)節(jié)，以及權(quán)利金的內(nèi)容；在被問到STC是否還打算針對(duì)其他使用雙重圖形微影的半導(dǎo)體公司采取類似的法律行動(dòng)時(shí)，她也拒絕提到任何廠商名稱。

“我想較恰當(dāng)?shù)恼f法是，大學(xué)認(rèn)為，如果有公司使用該雙重圖形微影技術(shù)，應(yīng)該以正當(dāng)程序取得協(xié)議并支付合理授權(quán)費(fèi)，而這對(duì)產(chǎn)業(yè)界來說也是非常重要的。”Kuuttila表示，UNM希望能因?yàn)槠湓V訟行動(dòng)，讓全球各大芯片制造商成為其正式授權(quán)名單中的成員：“如果英特爾成為我們的授權(quán)對(duì)象，對(duì)我們是一大激勵(lì)?！?/FONT>

由于半導(dǎo)體制程節(jié)點(diǎn)進(jìn)入32納米節(jié)點(diǎn)，為了補(bǔ)償線寬微縮與影像模糊的問題，芯片制造商開始采用雙重圖形技術(shù)；該技術(shù)有許多不同的種類，但并不清楚UNM所持有的雙重圖形微影技術(shù)專利，是否涵蓋目前所有的雙重圖形技術(shù)。UNM是在2000年取得雙重圖形技術(shù)專利，技術(shù)開發(fā)者包括該校的多位研究人員。

UNM所取得的美國(guó)專利號(hào)碼(U.S. Patent No.)為6.042.998，標(biāo)題是“擴(kuò)展微影圖像空間頻率的方法與儀器(Method and Apparatus for Extending Spatial Frequencies in Photolithography Images)”，技術(shù)開發(fā)者包括該校電子與計(jì)算機(jī)工程系知名教授Steven R. J. Brueck，他同時(shí)任教物理與天文系，并擔(dān)任該校高科技材料研究中心總監(jiān)。