【導(dǎo)讀】臺(tái)積電投資2億美元擴(kuò)充產(chǎn)能 45納米九月將量產(chǎn)  
    臺(tái)積電(TSMC)董事會(huì)日前核準(zhǔn)資本預(yù)算美金2億500萬(wàn)元，將用以擴(kuò)充該公司晶圓十二廠(chǎng)的45納米制程產(chǎn)能。臺(tái)積電預(yù)計(jì)于今年九月即可完成45納米制程驗(yàn)證并開(kāi)始為客戶(hù)進(jìn)行量產(chǎn)，該制程結(jié)合了193納米浸潤(rùn)式曝光顯影制程、應(yīng)變硅晶(Silicon strains)以及超低介電系數(shù)(Extreme low-k dielectric，ELK)組件連接材料等優(yōu)勢(shì)。 

    臺(tái)積電計(jì)劃先推出45納米低耗電量(LP)制程，之后再推出泛用型(General purpose)及高效能(High performance，GS)制程。此外45納米邏輯制程也提供低耗電量三閘級(jí)氧化層(Triple gate oxide，LPG)的制程選擇。此三種制程皆提供多種不同運(yùn)作電壓以及1.8伏、2.5伏或3.3伏的輸入/輸出電壓以滿(mǎn)足不同產(chǎn)品的需求。臺(tái)積電并同時(shí)宣布推出45納米制程設(shè)計(jì)生態(tài)環(huán)境。